等离子体反应装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510126346.7

申请日：

2005-12-07

公开(公告)号：

CN1848372A

公开(公告)日：

2006-10-18

发明(设计)人：

管长乐

申请人：

申请人地址：

100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L21205 H01L213065 H01L2167 C23C1644 C23C1456 C23F400 H01J3732 H05H100

代理机构：

北京路浩知识产权代理有限公司

代理人：

王常风

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-07-23	授权	授权
2006-12-20	实质审查的生效	实质审查的生效
2018-08-10	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 21/00 变更事项:专利权人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100016 北京市朝阳区酒仙桥东路1号变更后:100176 北京经济技术开发区文昌大道8号
2006-10-18	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体反应方法和等离子体反应装置 [P].

石川泰男 .

中国专利 :CN115380629A ,2022-11-22

[2]

等离子体反应腔 [P].

聂淼 .

中国专利 :CN103811258A ,2014-05-21

[3]

等离子体约束装置及等离子体处理装置 [P].

傅时梁 ;

杨金全 ;

王枫 .

中国专利 :CN212461598U ,2021-02-02

[4]

高通量等离子体反应装置 [P].

张婧 ;

张铁 ;

任君朋 ;

孙峰 ;

徐伟 ;

石宁 ;

金满平 .

中国专利 :CN208553673U ,2019-03-01

[5]

格栅式等离子体反应装置 [P].

张婧 ;

张铁 ;

石宁 ;

徐伟 ;

任君朋 ;

孙峰 ;

李亚辉 .

中国专利 :CN208554137U ,2019-03-01

[6]

等离子体处理装置 [P].

单静静 ;

豆海清 ;

完颜俊雄 ;

郭玉芳 ;

高毅 .

中国专利 :CN218351406U ,2023-01-20

[7]

等离子体沉积装置 [P].

孟杰 ;

胡广严 ;

吴孝哲 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN208949405U ,2019-06-07

[8]

等离子体处理装置 [P].

伊藤智 .

日本专利 :CN113451100B ,2024-09-24

[9]

等离子体处理装置 [P].

伊藤智 .

中国专利 :CN113451100A ,2021-09-28

[10]

等离子体处理装置 [P].

伊藤智 .

中国专利 :CN109755091A ,2019-05-14

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