喷头组件和包括该喷头组件的薄膜沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080051715.X

申请日：

2010-09-13

公开(公告)号：

CN102648512A

公开(公告)日：

2012-08-22

发明(设计)人：

韩昌熙柳东浩李起薰

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

H01L21205

IPC分类号：

代理机构：

北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384

代理人：

郑青松

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-04-29	授权	授权
2016-08-17	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101737458133 IPC(主分类):H01L 21/205 专利号:ZL201080051715X 登记生效日:20160728 变更事项:专利权人变更前权利人:圆益控股股份有限公司变更后权利人:圆益IPS股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:韩国京畿道平泽市漆怪街78-40(芝制洞) 变更后权利人:韩国京畿道平泽市振威面振威产团路75
2012-08-22	公开	公开
2012-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101333914012 IPC(主分类):H01L 21/205 专利申请号:201080051715X 申请日:20100913
2016-08-17	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101737458132 IPC(主分类):H01L 21/205 专利号:ZL201080051715X 变更事项:专利权人变更前:圆益IPS股份有限公司变更后:圆益控股股份有限公司变更事项:地址变更前:韩国京畿道变更后:韩国京畿道平泽市漆怪街78-40(芝制洞)

共 50 条

[1]

喷头组件和包括该喷头组件的等离子体处理设备 [P].

金星渊 ;

金镐翼 .

韩国专利 :CN120089580A ,2025-06-03

[2]

喷头组件及包括该喷头组件的衬底处理设备 [P].

朴兑根 ;

姜栋元 .

韩国专利 :CN120236977A ,2025-07-01

[3]

喷头组件、沉积设备及沉积方法 [P].

马春龙 ;

罗兴安 .

中国专利 :CN110656317A ,2020-01-07

[4]

包括上喷头和下喷头在内的沉积装置 [P].

朴柄善 ;

徐枝延 ;

任智芸 ;

林炫锡 ;

田炳好 ;

姜有善 ;

权赫镐 ;

朴星津 ;

严太镕 ;

河东协 .

中国专利 :CN109797376A ,2019-05-24

[5]

磁体组件和包括该磁体组件的沉积装置 [P].

安鼎铉 ;

文在晳 ;

李丞赈 .

韩国专利 :CN119480331A ,2025-02-18

[6]

喷头组件及喷头装置 [P].

金峙良 ;

吴旭民 ;

吴晓龙 ;

卢绰莹 ;

周乐 .

中国专利 :CN107107079B ,2017-08-29

[7]

喷头组件及喷头装置 [P].

金峙良 ;

吴旭民 ;

吴晓龙 ;

卢绰莹 ;

周乐 .

中国专利 :CN205761868U ,2016-12-07

[8]

喷头组件和包括它的涂胶系统 [P].

邱中全 ;

郑文宇 .

中国专利 :CN215141578U ,2021-12-14

[9]

调节装置和喷头组件 [P].

李林稳 ;

施健安 .

中国专利 :CN215204078U ,2021-12-17

[10]

喷头组件 [P].

雷切尔·E·巴策尔 ;

郭彤彤 ;

桂喆 .

中国专利 :CN307194453S ,2022-03-22

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