包括上喷头和下喷头在内的沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811268189.7

申请日：

2018-10-29

公开(公告)号：

CN109797376A

公开(公告)日：

2019-05-24

发明(设计)人：

朴柄善徐枝延任智芸林炫锡田炳好姜有善权赫镐朴星津严太镕河东协

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

周泉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-24	公开	公开
2020-10-20	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20181029

共 50 条

[1]

喷头组件和包括该喷头组件的薄膜沉积装置 [P].

韩昌熙 ;

柳东浩 ;

李起薰 .

中国专利 :CN102648512A ,2012-08-22

[2]

沉积装置的喷头 [P].

金官希 ;

车东壹 ;

黄领务 ;

严基领 ;

赵秋天 ;

李重宪 ;

李恩受 .

韩国专利 :CN120099501A ,2025-06-06

[3]

化学蒸发沉积装置喷头 [P].

严坪镕 .

中国专利 :CN101031998A ,2007-09-05

[4]

喷头组件和包括该喷头组件的等离子体处理设备 [P].

金星渊 ;

金镐翼 .

韩国专利 :CN120089580A ,2025-06-03

[5]

气体喷头及薄膜沉积装置 [P].

杨士逸 .

中国专利 :CN221440859U ,2024-07-30

[6]

喷头及气相沉积装置 [P].

魏晓平 ;

张琦 .

中国专利 :CN222975285U ,2025-06-13

[7]

用于控制晶片斜边/边缘上的沉积的喷头设计 [P].

迈克尔·J·雅尼基 ;

布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯 .

中国专利 :CN115461493A ,2022-12-09

[8]

化学气相沉积装置及其喷头 [P].

卜维亮 ;

平延磊 ;

张炳一 .

中国专利 :CN102051595A ,2011-05-11

[9]

化学气相沉积装置及其喷头 [P].

卜维亮 ;

李勇 ;

曾明 .

中国专利 :CN102140629A ,2011-08-03

[10]

沉积源和包括沉积源的沉积装置 [P].

薛在完 ;

尹引泽 ;

崔钟贤 .

韩国专利 :CN117947387A ,2024-04-30

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