喷头组件和包括该喷头组件的等离子体处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411636805.5

申请日：

2024-11-15

公开(公告)号：

CN120089580A

公开(公告)日：

2025-06-03

发明(设计)人：

金星渊金镐翼

申请人：

细美事有限公司

申请人地址：

韩国忠清南道

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

C23C16/455 H01L21/67

代理机构：

北京市中伦律师事务所 11410

代理人：

杨黎峰;赵嫦

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-03	公开	公开

共 50 条

[1]

喷头组件及包括该喷头组件的衬底处理设备 [P].

朴兑根 ;

姜栋元 .

韩国专利 :CN120236977A ,2025-07-01

[2]

等离子体屏蔽组件和等离子体处理设备 [P].

林垠赞 ;

柳海永 ;

李殷守 ;

朴瑄昱 ;

张容文 ;

朴炫九 ;

李在龙 .

韩国专利 :CN222705440U ,2025-04-01

[3]

等离子体处理装置和喷头 [P].

佐佐木和男 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN108122726B ,2018-06-05

[4]

用于等离子体处理室的内部组件及气体喷头组件 [P].

徐朝阳 ;

吴狄 ;

荒见淳一 ;

倪图强 .

中国专利 :CN201503845U ,2010-06-09

[5]

用于等离子体处理设备的下电极组件和等离子体处理设备 [P].

吴磊 ;

叶如彬 ;

陈龙宝 ;

李振中 ;

徐晓磊 ;

朱文龙 .

中国专利 :CN112992634A ,2021-06-18

[6]

用于等离子体处理设备的射频电极组件和等离子体处理设备 [P].

苏宜龙 ;

左涛涛 ;

陈妙娟 .

中国专利 :CN112185787A ,2021-01-05

[7]

用于等离子体处理设备的下电极组件和等离子体处理设备 [P].

吴磊 ;

魏强 ;

叶如彬 ;

洪韬 ;

张一川 ;

廉晓芳 ;

黄允文 .

中国专利 :CN112863983A ,2021-05-28

[8]

用于等离子体处理的组件、等离子体处理设备和相关的方法 [P].

雷勇 .

中国专利 :CN118538590A ,2024-08-23

[9]

用于等离子体处理设备的气体喷头盘 [P].

有田洁 ;

中川显 ;

久我浩司 ;

俣野泰司 ;

佐藤信博 .

中国专利 :CN101151702B ,2008-03-26

[10]

喷头组件及等离子处理组件 [P].

武永顶 ;

陈斌 ;

陈春强 .

:CN121034932A ,2025-11-28

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