用于等离子体处理设备的气体喷头盘

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200680010656.5

申请日：

2006-04-04

公开(公告)号：

CN101151702B

公开(公告)日：

2008-03-26

发明(设计)人：

有田洁中川显久我浩司俣野泰司佐藤信博

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王玮

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-03-26	公开	公开
2017-05-24	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101721401456 IPC(主分类):H01J 37/32 专利号:ZL2006800106565 申请日:20060404 授权公告日:20100519 终止日期:20160404
2008-05-21	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-05-19	授权	授权
2012-06-27	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件序号:101388728811 IPC(主分类):H01J 37/32 专利号:ZL2006800106565 变更事项:专利权人变更前权利人:松下电器产业株式会社变更后权利人:松下电器产业株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本大阪府变更后权利人:日本大阪府变更事项:共同专利权人变更前权利人:黑崎播磨株式会社变更后权利人:无登记生效日:20120517 号牌文件类型代码:1602

共 50 条

[1]

等离子体处理设备 [P].

有田洁 ;

中川显 .

中国专利 :CN101151703A ,2008-03-26

[2]

等离子体处理设备 [P].

金圣烈 .

中国专利 :CN101552183B ,2009-10-07

[3]

等离子体处理设备 [P].

沈承辅 ;

成德镛 ;

卢泳辰 ;

李镕祐 ;

任志洙 ;

姜泂模 ;

韩丙勳 ;

李天揆 ;

堀口将人 .

中国专利 :CN110323117A ,2019-10-11

[4]

等离子体处理设备 [P].

岩井哲博 .

中国专利 :CN101116167A ,2008-01-30

[5]

等离子体处理设备 [P].

沈承辅 ;

成德镛 ;

卢泳辰 ;

李镕祐 ;

任志洙 ;

姜泂模 ;

韩丙勳 ;

李天揆 ;

堀口将人 .

韩国专利 :CN110323117B ,2024-06-21

[6]

利用后等离子体气体注入的等离子体处理设备 [P].

马绍铭 ;

弗拉迪米尔·纳戈尔尼 ;

D·V·德塞 ;

瑞安·M·帕库尔斯基 .

中国专利 :CN110741459B ,2020-01-31

[7]

等离子体处理设备 [P].

数见秀之 ;

手束勉 ;

西尾良司 ;

荒井雅嗣 ;

吉冈健 ;

坪根恒彦 ;

土居昭 ;

枝村学 ;

前田贤治 ;

金井三郎 .

中国专利 :CN1185030A ,1998-06-17

[8]

等离子体处理设备 [P].

张风港 .

中国专利 :CN101351076B ,2009-01-21

[9]

等离子体处理设备 [P].

田村一成 .

中国专利 :CN101500370A ,2009-08-05

[10]

等离子体处理设备 [P].

笹井建典 ;

豊田浩孝 .

中国专利 :CN110832956B ,2020-02-21

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