等离子体处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910211420.7

申请日：

2019-03-20

公开(公告)号：

CN110323117B

公开(公告)日：

2024-06-21

发明(设计)人：

沈承辅成德镛卢泳辰李镕祐任志洙姜泂模韩丙勳李天揆堀口将人

申请人：

三星电子株式会社

申请人地址：

韩国京畿道水原市

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

尹淑梅;刘美华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-06-21	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理设备 [P].

沈承辅 ;

成德镛 ;

卢泳辰 ;

李镕祐 ;

任志洙 ;

姜泂模 ;

韩丙勳 ;

李天揆 ;

堀口将人 .

中国专利 :CN110323117A ,2019-10-11

[2]

等离子体处理设备 [P].

数见秀之 ;

手束勉 ;

西尾良司 ;

荒井雅嗣 ;

吉冈健 ;

坪根恒彦 ;

土居昭 ;

枝村学 ;

前田贤治 ;

金井三郎 .

中国专利 :CN1185030A ,1998-06-17

[3]

等离子体处理设备 [P].

金圣烈 .

中国专利 :CN101552183B ,2009-10-07

[4]

等离子体处理设备 [P].

有田洁 ;

中川显 .

中国专利 :CN101151703A ,2008-03-26

[5]

等离子体处理设备 [P].

岩井哲博 .

中国专利 :CN101116167A ,2008-01-30

[6]

等离子体处理设备 [P].

张风港 .

中国专利 :CN101351076B ,2009-01-21

[7]

等离子体处理设备 [P].

田村一成 .

中国专利 :CN101500370A ,2009-08-05

[8]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[9]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

李勇锡 ;

郑石源 ;

许明洙 ;

安美罗 .

中国专利 :CN104576282A ,2015-04-29

[10]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

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