等离子体处理设备和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410557741.X

申请日：

2014-10-20

公开(公告)号：

CN104576282A

公开(公告)日：

2015-04-29

发明(设计)人：

李勇锡郑石源许明洙安美罗

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01J3702 H01L2167 H01L2102

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

韩芳;谭昌驰

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-04-29	公开	公开
2020-02-28	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01J 37/32 申请公布日:20150429
2016-08-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101672304956 IPC(主分类):H01J 37/32 专利申请号:201410557741X 申请日:20141020

共 50 条

[1]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

[2]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[3]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

山崎圭一 ;

猪冈结希子 ;

泽田康志 ;

田口典幸 ;

中园佳幸 ;

仲野章生 .

中国专利 :CN1165208C ,2002-02-06

[4]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

有田洁 .

中国专利 :CN1669109A ,2005-09-14

[5]

等离子体处理方法和等离子体处理设备 [P].

奥村智洋 ;

佐佐木雄一朗 ;

冈下胜己 ;

金成国 ;

前嶋聪 ;

伊藤裕之 ;

中山一郎 ;

水野文二 .

中国专利 :CN101053066A ,2007-10-10

[6]

等离子体处理设备 [P].

李庸仁 ;

申东甲 ;

金祐永 ;

文范基 ;

文智媛 ;

白寅华 ;

石承大 ;

禹时雄 ;

张世训 .

韩国专利 :CN117476497A ,2024-01-30

[7]

衬底等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

玉置直树 ;

市川尚志 ;

林久贵 ;

上夏井健 ;

桧森慎司 ;

山田纪和 ;

大濑刚 ;

阿部淳 .

中国专利 :CN101499399B ,2009-08-05

[8]

等离子体处理设备以及等离子体处理方法 [P].

黄振华 .

中国专利 :CN113035677B ,2021-06-25

[9]

等离子体处理设备和等离子体产生方法 [P].

石井信雄 ;

八坂保能 ;

高桥应明 ;

安藤真 .

中国专利 :CN100440448C ,2005-08-10

[10]

等离子体产生设备及等离子体处理设备 [P].

尤里·N·托尔马切夫 ;

马东俊 ;

金大一 ;

瑟吉·Y·纳瓦拉 .

中国专利 :CN1652661A ,2005-08-10

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