衬底等离子体处理设备和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910126704.2

申请日：

2009-01-23

公开(公告)号：

CN101499399B

公开(公告)日：

2009-08-05

发明(设计)人：

宇井明生玉置直树市川尚志林久贵上夏井健桧森慎司山田纪和大濑刚阿部淳

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L21311 H01L21768

代理机构：

北京市中咨律师事务所 11247

代理人：

杨晓光;于静

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[2]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

李勇锡 ;

郑石源 ;

许明洙 ;

安美罗 .

中国专利 :CN104576282A ,2015-04-29

[3]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

[4]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

山崎圭一 ;

猪冈结希子 ;

泽田康志 ;

田口典幸 ;

中园佳幸 ;

仲野章生 .

中国专利 :CN1165208C ,2002-02-06

[5]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

有田洁 .

中国专利 :CN1669109A ,2005-09-14

[6]

等离子体处理方法和等离子体处理设备 [P].

奥村智洋 ;

佐佐木雄一朗 ;

冈下胜己 ;

金成国 ;

前嶋聪 ;

伊藤裕之 ;

中山一郎 ;

水野文二 .

中国专利 :CN101053066A ,2007-10-10

[7]

用于衬底的等离子体处理的等离子体处理设备和方法 [P].

U·克罗尔 ;

B·莱格拉迪克 .

中国专利 :CN102017056A ,2011-04-13

[8]

等离子体处理设备以及等离子体处理方法 [P].

黄振华 .

中国专利 :CN113035677B ,2021-06-25

[9]

等离子体处理设备和等离子体产生方法 [P].

石井信雄 ;

八坂保能 ;

高桥应明 ;

安藤真 .

中国专利 :CN100440448C ,2005-08-10

[10]

衬底支撑组件、等离子体控制方法和等离子体处理设备 [P].

柳大铉 ;

具滋明 ;

闵堤泓 .

韩国专利 :CN120149143A ,2025-06-13

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-15	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人变更前:东芝存储器株式会社变更后:铠侠股份有限公司变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京都变更事项:专利权人变更前:东京毅力科创株式会社变更后:东京毅力科创株式会社
2012-03-21	授权	授权
2022-02-15	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H01J 37/32 登记生效日:20220127 变更事项:专利权人变更前权利人:东芝存储器株式会社变更后权利人:日商潘杰亚股份有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都变更事项:专利权人变更前权利人:东京毅力科创株式会社变更后权利人:东京毅力科创株式会社
2018-01-12	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H01J 37/32 登记生效日:20171225 变更事项:专利权人变更前权利人:株式会社东芝变更后权利人:东芝存储器株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都变更事项:共同专利权人变更前权利人:东京毅力科创株式会社变更后权利人:东京毅力科创株式会社
2022-02-15	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J 37/32 变更事项:专利权人变更前:日商潘杰亚股份有限公司变更后:东芝存储器株式会社变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京都变更事项:专利权人变更前:东京毅力科创株式会社变更后:东京毅力科创株式会社
2009-08-05	公开	公开
2009-09-30	实质审查的生效	实质审查的生效