等离子体处理设备和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01118648.8

申请日：

2001-06-06

公开(公告)号：

CN1165208C

公开(公告)日：

2002-02-06

发明(设计)人：

山崎圭一猪冈结希子泽田康志田口典幸中园佳幸仲野章生

申请人：

申请人地址：

日本大阪府

IPC主分类号：

H05H126

IPC分类号：

H01L213065 C23C1422

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司

代理人：

陈红;潘培坤

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2002-02-06	公开	公开
2012-01-04	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101259116511 IPC(主分类):H05H 1/26 专利号:ZL011186488 变更事项:专利权人变更前权利人:松下电工株式会社变更后权利人:松下电工神视株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本大阪府变更后权利人:日本国爱知县登记生效日:20111128
2013-01-30	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101507805316 IPC(主分类):H05H 1/26 专利号:ZL011186488 变更事项:专利权人变更前:松下电工神视株式会社变更后:松下神视株式会社变更事项:地址变更前:日本国爱知县变更后:日本国爱知县
2001-12-19	实质审查的生效	实质审查的生效
2021-06-22	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):H05H 1/26 申请日:20010606 授权公告日:20040901
2004-09-01	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[2]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

李勇锡 ;

郑石源 ;

许明洙 ;

安美罗 .

中国专利 :CN104576282A ,2015-04-29

[3]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

[4]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

有田洁 .

中国专利 :CN1669109A ,2005-09-14

[5]

等离子体处理方法和等离子体处理设备 [P].

奥村智洋 ;

佐佐木雄一朗 ;

冈下胜己 ;

金成国 ;

前嶋聪 ;

伊藤裕之 ;

中山一郎 ;

水野文二 .

中国专利 :CN101053066A ,2007-10-10

[6]

衬底等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

玉置直树 ;

市川尚志 ;

林久贵 ;

上夏井健 ;

桧森慎司 ;

山田纪和 ;

大濑刚 ;

阿部淳 .

中国专利 :CN101499399B ,2009-08-05

[7]

等离子体处理设备以及等离子体处理方法 [P].

黄振华 .

中国专利 :CN113035677B ,2021-06-25

[8]

等离子体处理设备和等离子体产生方法 [P].

石井信雄 ;

八坂保能 ;

高桥应明 ;

安藤真 .

中国专利 :CN100440448C ,2005-08-10

[9]

等离子体屏蔽组件和等离子体处理设备 [P].

林垠赞 ;

柳海永 ;

李殷守 ;

朴瑄昱 ;

张容文 ;

朴炫九 ;

李在龙 .

韩国专利 :CN222705440U ,2025-04-01

[10]

等离子体产生装置和等离子体处理设备 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN118400855A ,2024-07-26

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