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等离子体处理设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201880041052.X
申请日
:
2018-08-22
公开(公告)号
:
CN110832956B
公开(公告)日
:
2020-02-21
发明(设计)人
:
笹井建典
豊田浩孝
申请人
:
申请人地址
:
日本爱知县
IPC主分类号
:
H05H124
IPC分类号
:
B01J1908
H05H146
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
王艳江;郭峰霞
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-02-21
公开
公开
2020-03-17
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/24 申请日:20180822
2022-03-25
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子体处理设备
[P].
数见秀之
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数见秀之
;
手束勉
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手束勉
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西尾良司
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西尾良司
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荒井雅嗣
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荒井雅嗣
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吉冈健
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吉冈健
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坪根恒彦
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坪根恒彦
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土居昭
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土居昭
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枝村学
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枝村学
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前田贤治
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前田贤治
;
金井三郎
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金井三郎
.
中国专利
:CN1185030A
,1998-06-17
[2]
等离子体处理设备
[P].
有田洁
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有田洁
;
中川显
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中川显
.
中国专利
:CN101151703A
,2008-03-26
[3]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
菅井秀郎
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菅井秀郎
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井出哲也
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井出哲也
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佐佐木厚
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佐佐木厚
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东和文
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东和文
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中田行彦
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中田行彦
.
中国专利
:CN1670912A
,2005-09-21
[4]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
李勇锡
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李勇锡
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郑石源
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郑石源
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许明洙
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许明洙
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安美罗
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安美罗
.
中国专利
:CN104576282A
,2015-04-29
[5]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
宇井明生
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宇井明生
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林久贵
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林久贵
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富冈和广
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富冈和广
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山本洋
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山本洋
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今村翼
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今村翼
.
中国专利
:CN103681196A
,2014-03-26
[6]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
山崎圭一
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山崎圭一
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猪冈结希子
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猪冈结希子
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泽田康志
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泽田康志
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田口典幸
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田口典幸
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中园佳幸
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中园佳幸
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仲野章生
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仲野章生
.
中国专利
:CN1165208C
,2002-02-06
[7]
等离子体处理设备以及等离子体处理方法
[P].
黄振华
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黄振华
.
中国专利
:CN113035677B
,2021-06-25
[8]
等离子体处理设备和等离子体处理方法
[P].
岩井哲博
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岩井哲博
;
有田洁
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有田洁
.
中国专利
:CN1669109A
,2005-09-14
[9]
等离子体处理方法和等离子体处理设备
[P].
奥村智洋
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奥村智洋
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佐佐木雄一朗
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佐佐木雄一朗
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冈下胜己
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冈下胜己
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金成国
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金成国
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前嶋聪
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前嶋聪
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伊藤裕之
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伊藤裕之
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中山一郎
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中山一郎
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水野文二
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水野文二
.
中国专利
:CN101053066A
,2007-10-10
[10]
等离子体产生设备及等离子体处理设备
[P].
尤里·N·托尔马切夫
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尤里·N·托尔马切夫
;
马东俊
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马东俊
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金大一
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金大一
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瑟吉·Y·纳瓦拉
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瑟吉·Y·纳瓦拉
.
中国专利
:CN1652661A
,2005-08-10
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