沉积装置的喷头

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410474047.5

申请日：

2024-04-19

公开(公告)号：

CN120099501A

公开(公告)日：

2025-06-06

发明(设计)人：

金官希车东壹黄领务严基领赵秋天李重宪李恩受

申请人：

盛吉盛（韩国）半导体科技有限公司

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

C23C16/50

IPC分类号：

C23C16/455

代理机构：

北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384

代理人：

郑青松

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/50申请日:20240419
2025-06-06	公开	公开

共 50 条

[1]

喷头组件、沉积设备及沉积方法 [P].

马春龙 ;

罗兴安 .

中国专利 :CN110656317A ,2020-01-07

[2]

化学蒸发沉积装置喷头 [P].

严坪镕 .

中国专利 :CN101031998A ,2007-09-05

[3]

包括上喷头和下喷头在内的沉积装置 [P].

朴柄善 ;

徐枝延 ;

任智芸 ;

林炫锡 ;

田炳好 ;

姜有善 ;

权赫镐 ;

朴星津 ;

严太镕 ;

河东协 .

中国专利 :CN109797376A ,2019-05-24

[4]

喷头及具有其的化学气相沉积装置 [P].

郭挑远 ;

白国斌 ;

高建峰 ;

王桂磊 ;

田光辉 ;

丁云凌 .

中国专利 :CN114622182A ,2022-06-14

[5]

喷头及具有其的化学气相沉积装置 [P].

郭挑远 ;

白国斌 ;

高建峰 ;

王桂磊 ;

田光辉 ;

丁云凌 .

中国专利 :CN114622182B ,2024-12-31

[6]

喷头组件和包括该喷头组件的薄膜沉积装置 [P].

韩昌熙 ;

柳东浩 ;

李起薰 .

中国专利 :CN102648512A ,2012-08-22

[7]

气体喷头及薄膜沉积装置 [P].

杨士逸 .

中国专利 :CN221440859U ,2024-07-30

[8]

喷头及气相沉积装置 [P].

魏晓平 ;

张琦 .

中国专利 :CN222975285U ,2025-06-13

[9]

沉积装置及具有该沉积装置的沉积系统 [P].

孙宗源 ;

金大渊 ;

李相敦 ;

张显秀 .

中国专利 :CN106435525B ,2017-02-22

[10]

化学气相沉积装置及其喷头 [P].

卜维亮 ;

平延磊 ;

张炳一 .

中国专利 :CN102051595A ,2011-05-11

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