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化学蒸发沉积装置喷头
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200580027248.6
申请日
:
2005-08-09
公开(公告)号
:
CN101031998A
公开(公告)日
:
2007-09-05
发明(设计)人
:
严坪镕
申请人
:
申请人地址
:
韩国忠清南道
IPC主分类号
:
H01L21205
IPC分类号
:
代理机构
:
北京汇泽知识产权代理有限公司
代理人
:
张瑾
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2007-09-05
公开
公开
2009-03-25
授权
授权
2007-10-31
实质审查的生效
实质审查的生效
共 50 条
[1]
化学气相沉积装置及其喷头
[P].
卜维亮
论文数:
0
引用数:
0
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0
卜维亮
;
平延磊
论文数:
0
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0
平延磊
;
张炳一
论文数:
0
引用数:
0
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0
张炳一
.
中国专利
:CN102051595A
,2011-05-11
[2]
化学气相沉积装置及其喷头
[P].
卜维亮
论文数:
0
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0
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0
卜维亮
;
李勇
论文数:
0
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0
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0
李勇
;
曾明
论文数:
0
引用数:
0
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0
曾明
.
中国专利
:CN102140629A
,2011-08-03
[3]
化学气相沉积装置
[P].
胡广严
论文数:
0
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0
胡广严
;
吴龙江
论文数:
0
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0
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0
吴龙江
;
林宗贤
论文数:
0
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0
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0
林宗贤
.
中国专利
:CN207331057U
,2018-05-08
[4]
喷头及具有其的化学气相沉积装置
[P].
郭挑远
论文数:
0
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0
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0
郭挑远
;
白国斌
论文数:
0
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0
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0
白国斌
;
高建峰
论文数:
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0
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0
高建峰
;
王桂磊
论文数:
0
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0
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0
王桂磊
;
田光辉
论文数:
0
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0
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0
田光辉
;
丁云凌
论文数:
0
引用数:
0
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0
丁云凌
.
中国专利
:CN114622182A
,2022-06-14
[5]
一种化学气相沉积装置及其喷头
[P].
吴天成
论文数:
0
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0
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0
吴天成
.
中国专利
:CN110894597A
,2020-03-20
[6]
一种化学气相沉积装置及其喷头
[P].
吴天成
论文数:
0
引用数:
0
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0
吴天成
.
中国专利
:CN208829759U
,2019-05-07
[7]
喷头及具有其的化学气相沉积装置
[P].
郭挑远
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
郭挑远
;
白国斌
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
白国斌
;
高建峰
论文数:
0
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
高建峰
;
王桂磊
论文数:
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0
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
王桂磊
;
田光辉
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0
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0
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0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
田光辉
;
丁云凌
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
丁云凌
.
中国专利
:CN114622182B
,2024-12-31
[8]
一种化学气相沉积装置及其喷头组件
[P].
李一成
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李一成
.
中国专利
:CN101974736B
,2011-02-16
[9]
化学气相沉积装置、化学气相沉积方法
[P].
周鸣
论文数:
0
引用数:
0
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0
周鸣
.
中国专利
:CN103060772B
,2013-04-24
[10]
气体喷头及薄膜沉积装置
[P].
杨士逸
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
奥恒科技股份有限公司
奥恒科技股份有限公司
杨士逸
.
中国专利
:CN221440859U
,2024-07-30
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