一种真空不连续溅镀工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410841074.8

申请日：

2014-12-31

公开(公告)号：

CN104593736A

公开(公告)日：

2015-05-06

发明(设计)人：

徐耀

申请人：

申请人地址：

201404 上海市奉贤区金汇镇金钱公路555号18幢104室

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

C23C1402 C23C1458

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-11-02	文件的公告送达	文件的公告送达号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101741106720 IPC(主分类):C23C 14/34 专利号:无专利申请号:2014108410748 收件人:上海释欣实业有限公司文件名称:第一次审查意见通知书
2015-05-27	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101611565173 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2014108410748 申请日:20141231
2018-07-20	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C 14/34 申请公布日:20150506
2015-05-06	公开	公开

共 50 条

[1]

一种真空不连续溅镀方法 [P].

徐耀 .

中国专利 :CN104593741A ,2015-05-06

[2]

连续式真空溅镀装置 [P].

黄泳钊 ;

郑博仁 .

中国专利 :CN201501926U ,2010-06-09

[3]

环保真空溅镀工艺 [P].

蒋建华 ;

向毅 .

中国专利 :CN109881164A ,2019-06-14

[4]

一种溅镀机及其溅镀工艺 [P].

林行 ;

葛健国 ;

吕育仁 ;

范小荣 ;

朱育民 ;

庄胜智 .

中国专利 :CN110819947A ,2020-02-21

[5]

一种用于真空溅镀的溅镀靶 [P].

郑志铭 .

中国专利 :CN202705455U ,2013-01-30

[6]

一种真空溅镀装置 [P].

余泽军 .

中国专利 :CN109055903A ,2018-12-21

[7]

真空溅镀装置 [P].

青仓勇 ;

山西齐 ;

大西阳一 ;

池田种次郎 .

中国专利 :CN1109512A ,1995-10-04

[8]

真空溅镀系统 [P].

郭金柱 ;

郑博仁 ;

黄泳钊 .

中国专利 :CN211227316U ,2020-08-11

[9]

真空溅镀偏压传导装置及真空溅镀设备 [P].

吴佳颖 .

中国专利 :CN102102180A ,2011-06-22

[10]

带表面活化的连续真空溅镀装置 [P].

戴明光 .

中国专利 :CN202181343U ,2012-04-04

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