基板处理装置及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610200531.4

申请日：

2016-03-31

公开(公告)号：

CN106480412A

公开(公告)日：

2017-03-08

发明(设计)人：

权永秀罗敬弼朴钟吾崔浈烈

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道平泽市振威面振威产团路75

IPC主分类号：

C23C1424

IPC分类号：

C23C1454

代理机构：

北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384

代理人：

郑青松

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-05	授权	授权
2017-03-08	公开	公开
2017-04-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101710768350 IPC(主分类):C23C 14/24 专利申请号:2016102005314 申请日:20160331

共 50 条

[1]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

郑贤默 ;

姜瑨 .

韩国专利 :CN119318011A ,2025-01-14

[2]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

韩在镇 ;

朴建宇 ;

朴又永 ;

李成焕 .

韩国专利 :CN118668181A ,2024-09-20

[3]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

崔伦硕 ;

赵顺天 ;

金润相 .

中国专利 :CN115497801A ,2022-12-20

[4]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

柏木诚 .

日本专利 :CN118450967A ,2024-08-06

[5]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

齐藤裕树 ;

林航之介 ;

大田垣崇 ;

长岛裕次 .

中国专利 :CN107256823B ,2017-10-17

[6]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

荒木知康 .

中国专利 :CN108630567B ,2018-10-09

[7]

基板处理方法、基板处理装置及基板处理系统 [P].

渡边敏史 ;

山本晓 ;

町田优 .

中国专利 :CN108705383A ,2018-10-26

[8]

基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 .

中国专利 :CN110800087A ,2020-02-14

[9]

基板处理方法、基板处理液及基板处理装置 [P].

佐佐木悠太 .

日本专利 :CN110800087B ,2024-03-19

[10]

基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序 [P].

火口友美 ;

鳅场真树 ;

胡铃达 ;

岩川裕 ;

藤原直树 ;

吉原直彦 .

日本专利 :CN119542182A ,2025-02-28

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