基板处理装置及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710206347.5

申请日：

2017-03-07

公开(公告)号：

CN107256823B

公开(公告)日：

2017-10-17

发明(设计)人：

齐藤裕树林航之介大田垣崇长岛裕次

申请人：

申请人地址：

日本神奈川县

IPC主分类号：

H01L2102

IPC分类号：

H01L2167 H01L21677

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

周欣;陈建全

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-10-17	公开	公开
2021-06-11	授权	授权
2017-11-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20170307

共 50 条

[1]

基板的处理装置及处理方法 [P].

林航之介 ;

松井绘美 ;

大田垣崇 ;

桧森洋辅 .

中国专利 :CN105070673A ,2015-11-18

[2]

基板的处理装置及处理方法 [P].

林航之介 ;

松井绘美 ;

大田垣崇 ;

桧森洋辅 .

中国专利 :CN103187341A ,2013-07-03

[3]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

小林信雄 ;

樋口晃一 ;

黑川祯明 ;

荒井隆史 .

中国专利 :CN101009206B ,2007-08-01

[4]

基板处理方法、基板处理系统及基板处理程序 [P].

贝濑精一 ;

岩渕纪之 ;

加藤茂昭 ;

中村博 ;

横内健 ;

柴田真理子 ;

小尾章 .

中国专利 :CN1779906A ,2006-05-31

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

沼仓雅博 .

中国专利 :CN1321448C ,2005-08-10

[6]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

久保明广 ;

小玉辉彦 .

中国专利 :CN106933061B ,2017-07-07

[7]

基板处理方法、基板处理装置及基板处理液 [P].

塙洋祐 ;

春本晶子 ;

上田大 .

日本专利 :CN119585848A ,2025-03-07

[8]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

朴祥铉 ;

李弘周 .

中国专利 :CN111293056A ,2020-06-16

[9]

基板处理方法及基板处理装置 [P].

樋口鮎美 ;

赤西勇哉 .

中国专利 :CN111725131A ,2020-09-29

[10]

基板处理装置及基板处理方法 [P].

权永秀 ;

罗敬弼 ;

朴钟吾 ;

崔浈烈 .

中国专利 :CN106480412A ,2017-03-08

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