抛光垫及其制备方法、半导体器件的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111054747.1

申请日：

2021-09-09

公开(公告)号：

CN114161313A

公开(公告)日：

2022-03-11

发明(设计)人：

郑恩先尹钟旭徐章源

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

B24B37013

IPC分类号：

B24B37005 B24B4900 B24B3726 H01L21306 H01L2166

代理机构：

成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258

代理人：

魏彦

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-11	公开	公开
2022-03-29	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 37/013 申请日:20210909

共 50 条

[1]

抛光垫、抛光垫的制备方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

许惠暎 ;

郑恩先 ;

安宰仁 .

中国专利 :CN114762953A ,2022-07-19

[2]

抛光垫、抛光垫的制备方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

郑恩先 ;

尹晟勋 ;

许惠暎 ;

徐章源 .

韩国专利 :CN115070608B ,2024-06-07

[3]

抛光垫、抛光垫的制备方法以及半导体器件的制造方法 [P].

尹晟勋 ;

安宰仁 ;

郑恩先 ;

徐章源 .

中国专利 :CN115302401A ,2022-11-08

[4]

抛光垫、抛光垫的制备方法以及半导体器件的制造方法 [P].

尹晟勋 ;

安宰仁 ;

郑恩先 ;

徐章源 .

韩国专利 :CN115302401B ,2024-03-08

[5]

抛光垫、抛光垫的制备方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

郑恩先 ;

尹晟勋 ;

许惠暎 ;

徐章源 .

中国专利 :CN115070608A ,2022-09-20

[6]

抛光垫、抛光垫的制备方法以及半导体器件的制造方法 [P].

郑恩先 ;

尹钟旭 ;

徐章源 ;

文秀泳 .

中国专利 :CN115302402A ,2022-11-08

[7]

抛光垫、抛光垫的制备方法以及半导体器件的制造方法 [P].

郑恩先 ;

尹钟旭 ;

徐章源 ;

文秀泳 .

韩国专利 :CN115302402B ,2024-12-24

[8]

抛光垫、抛光垫的制造方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

安宰仁 ;

郑恩先 ;

许惠暎 ;

徐章源 .

中国专利 :CN114310656A ,2022-04-12

[9]

抛光垫、抛光垫的制造方法及半导体器件的制造方法 [P].

尹钟旭 ;

安宰仁 ;

郑恩先 ;

许惠暎 ;

徐章源 .

韩国专利 :CN114310656B ,2024-03-08

[10]

抛光垫和使用该抛光垫的半导体器件的制造方法 [P].

郑恩先 ;

尹钟旭 ;

甄明玉 ;

徐章源 ;

柳智娟 .

韩国专利 :CN114346894B ,2024-05-14

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