氮化铝膜及覆盖该膜的部件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110097277.7

申请日：

2011-04-15

公开(公告)号：

CN102219558A

公开(公告)日：

2011-10-19

发明(设计)人：

加藤公二狩野正树

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C04B4185

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-11-06	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101669890969 IPC(主分类):C23C 16/34 专利申请号:2011100972777 申请公布日:20111019
2011-11-30	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101145709550 IPC(主分类):C04B 41/85 专利申请号:2011100972777 申请日:20110415
2011-10-19	公开	公开

共 50 条

[1]

氮化铝膜的形成方法 [P].

加藤公二 ;

狩野正树 ;

山村和市 .

中国专利 :CN102453884A ,2012-05-16

[2]

硬被膜覆盖部件 [P].

石川刚史 .

中国专利 :CN1876368A ,2006-12-13

[3]

氮化铝膜参数提取方法 [P].

王郴 ;

马盛林 ;

金玉丰 .

中国专利 :CN114964356B ,2024-02-13

[4]

沉积方法、含添加物的氮化铝膜及包括该膜的压电器件 [P].

斯蒂芬·R·伯吉斯 ;

R·辛德曼 ;

阿米特·拉斯托吉 ;

斯科特·海莫尔 ;

康斯坦尼·弗拉戈斯 .

中国专利 :CN107012422B ,2017-08-04

[5]

氮化铝钪膜及铁电体组件 [P].

召田雅实 ;

楠濑好郎 ;

饭浜准也 ;

末本祐也 ;

上冈义弘 ;

舟洼浩 ;

白石贵久 ;

安冈慎之介 ;

水谷凉一 ;

大田怜佳 .

日本专利 :CN118974306A ,2024-11-15

[6]

一种氮化铝膜的制备方法 [P].

刘忠范 ;

慈海娜 ;

高鹏 .

中国专利 :CN109285761B ,2024-07-23

[7]

一种氮化铝膜的制备方法 [P].

刘忠范 ;

慈海娜 ;

高鹏 .

中国专利 :CN109285761A ,2019-01-29

[8]

一种氮化铝衬底的电阻浆料以及制备氮化铝膜电阻的方法 [P].

江明泓 .

中国专利 :CN107910101A ,2018-04-13

[9]

用于低蚀刻速率硬模膜的具有氧掺杂的PVD氮化铝膜 [P].

曹勇 ;

大东和也 ;

拉尹库曼·雅卡尔尤 ;

唐先明 .

中国专利 :CN104170068B ,2014-11-26

[10]

氮化铝陶瓷的制备方法及采用该方法制备的氮化铝陶瓷 [P].

朱淑丽 ;

林信平 ;

林勇钊 ;

周龙飞 .

中国专利 :CN102030538B ,2011-04-27

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