氮化铝钪膜及铁电体组件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380030653.1

申请日：

2023-03-30

公开(公告)号：

CN118974306A

公开(公告)日：

2024-11-15

发明(设计)人：

召田雅实楠濑好郎饭浜准也末本祐也上冈义弘舟洼浩白石贵久安冈慎之介水谷凉一大田怜佳

申请人：

东曹株式会社国立大学法人东京工业大学

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

C23C14/06

IPC分类号：

H01L21/318 H10B53/30 H10N30/076 H10N30/853

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李恩华

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-15	公开	公开
2025-02-11	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/06申请日:20230330

共 50 条

[1]

氮化铝钪材料 [P].

吴文斌 ;

舒小敏 .

中国专利 :CN110562936A ,2019-12-13

[2]

氮化铝掺氮化钪镀膜材料 [P].

吴文斌 ;

舒小敏 .

中国专利 :CN111962021A ,2020-11-20

[3]

一种掺钪氮化铝薄膜的制备方法及掺钪氮化铝薄膜 [P].

郭凯 ;

赵腾达 ;

宋双艳 ;

陶庆爽 ;

李宏广 ;

翟思甜 .

中国专利 :CN120857847A ,2025-10-28

[4]

氮化铝掺氮化钪靶材的生产工艺 [P].

吴文斌 ;

舒小敏 .

中国专利 :CN110590375A ,2019-12-20

[5]

一种氮化铝钪靶材及其制备方法 [P].

邱从章 .

中国专利 :CN112723893B ,2021-04-30

[6]

氮化铝膜及覆盖该膜的部件 [P].

加藤公二 ;

狩野正树 .

中国专利 :CN102219558A ,2011-10-19

[7]

基于氮化铝钪的铁电忆阻器、其制备方法及应用 [P].

闫小兵 ;

张家赫 .

中国专利 :CN116056553B ,2025-10-28

[8]

钪掺杂的氮化铝的选择性蚀刻 [P].

维杰·班·夏尔马 ;

巴拉特瓦·罗摩克里希南 ;

苏克蒂·查特吉 .

美国专利 :CN117981060A ,2024-05-03

[9]

一种用于高掺钪浓度氮化铝生长的结构 [P].

尚正国 ;

陈宇昕 .

中国专利 :CN110931629A ,2020-03-27

[10]

氮化铝粉末及氮化铝烧结体 [P].

後藤猛 ;

村田弘 ;

市川恒希 .

中国专利 :CN1938221A ,2007-03-28

← 1 2 3 4 5 →