LDMOS器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010453206.5
申请日
2020-05-25
公开(公告)号
CN111653621A
公开(公告)日
2020-09-11
发明(设计)人
刘俊文 陈华伦
申请人
申请人地址
214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2940 H01L21336
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
罗雅文
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN109244140A ,2019-01-18
[2]
LDMOS器件及其制备方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN115377206A ,2022-11-22
[3]
LDMOS器件及其制备方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN115377206B ,2025-12-12
[4]
射频LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
遇寒 ;
蔡莹 ;
周正良 ;
李昊 .
中国专利 :CN104425589B ,2015-03-18
[5]
LDMOS器件制造方法 [P]. 
肖魁 ;
严以杰 .
中国专利 :CN102931088A ,2013-02-13
[6]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
钱文生 .
中国专利 :CN109830538B ,2019-05-31
[7]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
钱文生 .
中国专利 :CN108878533A ,2018-11-23
[8]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
陈正龙 .
中国专利 :CN115513060A ,2022-12-23
[9]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
许昭昭 ;
孔蔚然 ;
钱文生 ;
房子荃 .
中国专利 :CN108321206B ,2018-07-24
[10]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
房子荃 ;
钱文生 .
中国专利 :CN108400168A ,2018-08-14