LDMOS器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201811144001.8
申请日
2018-09-29
公开(公告)号
CN109244140A
公开(公告)日
2019-01-18
发明(设计)人
许昭昭
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L2940 H01L21336
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
郭四华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
射频LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
遇寒 ;
蔡莹 ;
周正良 ;
李昊 .
中国专利 :CN104425589B ,2015-03-18
[2]
LDMOS器件制造方法 [P]. 
肖魁 ;
严以杰 .
中国专利 :CN102931088A ,2013-02-13
[3]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
钱文生 .
中国专利 :CN108878533A ,2018-11-23
[4]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
刘俊文 ;
陈华伦 .
中国专利 :CN111653621A ,2020-09-11
[5]
射频LDMOS器件的制造方法 [P]. 
王春 ;
蔡莹 ;
周正良 .
中国专利 :CN104465404B ,2015-03-25
[6]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
钱文生 ;
吕赵鸿 .
中国专利 :CN102044563A ,2011-05-04
[7]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
陈正龙 .
中国专利 :CN115513060A ,2022-12-23
[8]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
许昭昭 ;
孔蔚然 ;
钱文生 ;
房子荃 .
中国专利 :CN108321206B ,2018-07-24
[9]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
张强 ;
黄冠群 .
中国专利 :CN109713033A ,2019-05-03
[10]
LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
许昭昭 .
中国专利 :CN111540785A ,2020-08-14