用于沉积含金属薄膜的金属-烯醇化物前体

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110399585.5

申请日：

2011-11-30

公开(公告)号：

CN102558221B

公开(公告)日：

2012-07-11

发明(设计)人：

J·A·T·诺曼雷新建

申请人：

申请人地址：

美国宾夕法尼亚州

IPC主分类号：

C07F728

IPC分类号：

C07F700 C23C1644 C23C1618

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

吴亦华;徐志明

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101324735054 IPC(主分类):C07F 7/28 专利申请号:2011103995855 申请日:20111130
2015-07-29	授权	授权
2017-06-23	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101754131061 IPC(主分类):C07F 7/28 专利号:ZL2011103995855 登记生效日:20170605 变更事项:专利权人变更前权利人:气体产品与化学公司变更后权利人:弗萨姆材料美国有限责任公司变更事项:地址变更前权利人:美国宾夕法尼亚州变更后权利人:美国亚利桑那州
2021-11-12	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C07F 7/28 申请日:20111130 授权公告日:20150729 终止日期:20201130
2012-07-11	公开	公开

共 50 条

[1]

有机金属化合物及其作为形成金属或金属衍生物薄膜和粉末前体的用途 [P].

H·蔡 .

中国专利 :CN1440417A ,2003-09-03

[2]

有机金属络合物及其作为金属薄膜沉积前体的应用 [P].

雷新建 ;

萧满超 ;

H·思里丹达姆 ;

K·S·库思尔 .

中国专利 :CN100400705C ,2006-08-09

[3]

用于薄膜沉积的铌和钒有机金属前体 [P].

N·布拉斯科 ;

A·克雷亚-安娜克莱托 ;

A·潘沙尔 ;

A·曹纳 .

中国专利 :CN102177163B ,2011-09-07

[4]

用于薄膜沉积的铌和钒有机金属前体 [P].

N·布拉斯科 ;

A·克雷亚-安娜克莱托 ;

A·潘沙尔 ;

A·曹纳 .

中国专利 :CN103741119A ,2014-04-23

[5]

用于沉积含第4族金属的薄膜的液体前体 [P].

X·雷 ;

J·A·T·诺曼 ;

D·P·斯潘斯 .

中国专利 :CN102086513B ,2011-06-08

[6]

用于陶瓷和金属薄膜沉积的前体化合物及其制备方法 [P].

申铉国 .

中国专利 :CN1733967A ,2006-02-15

[7]

有机金属前体化合物 [P].

D·M·汤普森 ;

D·W·彼得斯 ;

S·H·米埃尔 .

中国专利 :CN101516900A ,2009-08-26

[8]

包含金属化合物的薄膜沉积用组合物、利用该组合物的含金属薄膜的制造方法及利用该方法制造的含金属薄膜 [P].

权容熙 ;

卞泰锡 ;

全相勇 ;

李相赞 ;

任永宰 ;

李相益 .

韩国专利 :CN119654440A ,2025-03-18

[9]

用于沉积含金属薄膜的含氨基醚的液体组合物 [P].

S·V·伊瓦诺维 ;

X·雷 ;

D·P·斯潘斯 ;

J·A·T·诺曼 ;

L·M·马兹 .

中国专利 :CN102011098A ,2011-04-13

[10]

用于金属薄膜沉积的坩埚及用于金属薄膜沉积的蒸发源 [P].

朴显植 ;

崔在秀 ;

吴泳晩 .

中国专利 :CN108713262A ,2018-10-26

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