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空间控制等离子体
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080048162.6
申请日
:
2020-07-03
公开(公告)号
:
CN114041202A
公开(公告)日
:
2022-02-11
发明(设计)人
:
伊夫·洛德韦克·玛丽亚·克瑞顿
安徳里斯·莱夫尔斯
申请人
:
申请人地址
:
荷兰海牙
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
H05H124
代理机构
:
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270
代理人
:
尚玲;李维凤
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-02-11
公开
公开
2022-06-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20200703
共 50 条
[1]
等离子体源和等离子体处理装置
[P].
池田太郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
池田太郎
;
长田勇辉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
长田勇辉
;
宫下大幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
宫下大幸
;
小野田裕之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
小野田裕之
;
川上聪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
川上聪
.
中国专利
:CN115696713A
,2023-02-03
[2]
ECR等离子体源和ECR等离子体装置
[P].
松尾诚太郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松尾诚太郎
;
野崎俊行
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
野崎俊行
;
田中富三男
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
田中富三男
.
中国专利
:CN1647593A
,2005-07-27
[3]
等离子体控制
[P].
伊兰·奥列格·乌奇特尔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡普斯医疗有限公司
卡普斯医疗有限公司
伊兰·奥列格·乌奇特尔
;
包里斯·科根
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡普斯医疗有限公司
卡普斯医疗有限公司
包里斯·科根
.
:CN117769397A
,2024-03-26
[4]
用于控制等离子体偏斜的远程等离子体源
[P].
A·A·哈贾
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
A·A·哈贾
;
M·阿优伯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M·阿优伯
;
R·博卡
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
R·博卡
;
J·D·平森二世
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
J·D·平森二世
;
J·C·罗查-阿尔瓦瑞斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
J·C·罗查-阿尔瓦瑞斯
.
中国专利
:CN105977125B
,2016-09-28
[5]
等离子体控制方法及等离子体控制装置
[P].
下泽慎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
下泽慎
.
中国专利
:CN101835338A
,2010-09-15
[6]
等离子体控制方法及等离子体控制装置
[P].
下泽慎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
下泽慎
.
中国专利
:CN1783429A
,2006-06-07
[7]
空间等离子体测量装置
[P].
宋瑞海
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
宋瑞海
;
张书锋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张书锋
;
张明志
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张明志
;
贾军伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
贾军伟
;
柴昊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
柴昊
.
中国专利
:CN103413747B
,2013-11-27
[8]
等离子体探测装置、等离子体处理装置和控制方法
[P].
池田太郎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
池田太郎
;
佐藤干夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐藤干夫
;
镰田英纪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
镰田英纪
.
中国专利
:CN112449473A
,2021-03-05
[9]
控制等离子体源的离子通量分布的等离子体整形器
[P].
亚历山大·利坎斯奇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料股份有限公司
应用材料股份有限公司
亚历山大·利坎斯奇
;
彼得·F·库鲁尼西
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料股份有限公司
应用材料股份有限公司
彼得·F·库鲁尼西
;
艾伦·V·海斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料股份有限公司
应用材料股份有限公司
艾伦·V·海斯
.
美国专利
:CN118786506A
,2024-10-15
[10]
等离子体源及等离子体治疗装置
[P].
安头白
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
安头白
;
金东逸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
金东逸
;
崔银河
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
崔银河
;
李相学
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李相学
;
崔珍成
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
崔珍成
.
中国专利
:CN110833657A
,2020-02-25
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