等离子体控制方法及等离子体控制装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010157692.2

申请日：

2005-11-21

公开(公告)号：

CN101835338A

公开(公告)日：

2010-09-15

发明(设计)人：

下泽慎

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

C23F400

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101012515985 IPC(主分类):H05H 1/46 专利申请号:2010101576922 申请日:20051121
2011-11-23	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101215104866 IPC(主分类):H05H 1/46 专利申请号:2010101576922 变更事项:申请人变更前权利人:富士电机系统株式会社变更后权利人:富士电机株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京变更后权利人:日本国川崎市登记生效日:20111009
2010-09-15	公开	公开
2014-06-25	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101702068924 IPC(主分类):H05H 1/46 专利申请号:2010101576922 申请公布日:20100915

共 50 条

[1]

等离子体控制方法及等离子体控制装置 [P].

下泽慎 .

中国专利 :CN1783429A ,2006-06-07

[2]

等离子体处理装置和等离子体控制方法 [P].

輿水地盐 ;

传宝一树 .

中国专利 :CN102376521A ,2012-03-14

[3]

等离子体控制 [P].

伊兰·奥列格·乌奇特尔 ;

包里斯·科根 .

:CN117769397A ,2024-03-26

[4]

等离子体控制装置 [P].

速水利泰 ;

藤井竜介 .

中国专利 :CN108353493B ,2018-07-31

[5]

等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P].

森口尚树 .

中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25

[6]

等离子体控制系统及等离子体控制程序 [P].

岩苔翼 ;

岸田茂明 .

中国专利 :CN114080864A ,2022-02-22

[7]

等离子体处理装置、等离子体控制方法和存储介质 [P].

斋藤祐介 ;

大岩德久 .

中国专利 :CN110364411A ,2019-10-22

[8]

等离子体产生装置及等离子体产生方法 [P].

熊谷裕典 ;

今井伸一 .

中国专利 :CN103429539A ,2013-12-04

[9]

等离子体切割方法及等离子体切割装置 [P].

小池哲夫 ;

古城昭 ;

平井隆太 .

中国专利 :CN101541464A ,2009-09-23

[10]

等离子体CVD装置及等离子体CVD方法 [P].

坂本桂太郎 ;

藤内俊平 ;

江尻广惠 ;

野村文保 .

中国专利 :CN105051252A ,2015-11-11

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