铜电镀薄膜方法

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专利类型
发明
申请号
CN03150640.2
申请日
2003-08-29
公开(公告)号
CN1308495C
公开(公告)日
2005-03-09
发明(设计)人
张开军 职春星 徐根保
申请人
申请人地址
201203上海市张江路18号
IPC主分类号
C25D712
IPC分类号
H01L21288 H01L21445
代理机构
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人
陈红
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
铜电镀方法 [P]. 
关口淳之辅 ;
山口俊一郎 .
中国专利 :CN1190520C ,2002-09-18
[2]
铜电镀溶液及铜电镀方法 [P]. 
刘宏伟 .
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[3]
铜互连电镀填充方法 [P]. 
李明 ;
张俊红 ;
孙琪 ;
曹海勇 .
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[4]
改善电镀薄膜均匀性的电镀方法 [P]. 
庄严 ;
黄鸿仪 .
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[5]
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A·M·里夫希茨阿莱比奥 ;
J·D·普朗格 ;
M·K·加拉格尔 ;
A·杰林斯基 ;
L·A·戈麦斯 ;
J·F·拉霍夫斯基 .
美国专利 :CN112680758B ,2024-11-15
[6]
增强铜电镀的方法 [P]. 
A·M·里夫希茨阿莱比奥 ;
J·D·普朗格 ;
M·K·加拉格尔 ;
A·杰林斯基 ;
L·A·戈麦斯 ;
J·F·拉霍夫斯基 .
中国专利 :CN112680758A ,2021-04-20
[7]
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齐藤睦子 ;
酒井诚 ;
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[8]
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凌惠琴 ;
张俊红 ;
曹海勇 ;
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[9]
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礒野敏久 ;
立花真司 ;
川濑智弘 ;
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[10]
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陈学忠 ;
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