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一种掩模台及光刻系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910161037.5
申请日：
2019-03-04
公开(公告)号：
CN111650815B
公开(公告)日：
2020-09-11
发明(设计)人：
蔡晨
王鑫鑫
齐芊枫
申请人：
申请人地址：
201203 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人：
胡彬
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-09-11 | 公开 | 公开 |
| 2020-10-13 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20190304 |
| 2022-09-20 | 授权 | 授权 |