一种无掩膜光刻系统中曝光图形临近效应校正方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810023485.0

申请日：

2008-04-08

公开(公告)号：

CN101261441A

公开(公告)日：

2008-09-10

发明(设计)人：

陈明勇

申请人：

申请人地址：

230601安徽省合肥市经济技术开发区乡村花园会所二楼

IPC主分类号：

G03F114

IPC分类号：

代理机构：

安徽合肥华信知识产权代理有限公司

代理人：

余成俊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-09-10	公开	公开
2011-03-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101076740448 IPC(主分类):G03F 1/14 专利申请号:2008100234850 公开日:20080910
2008-10-29	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

无掩膜光刻系统的直帧式数据处理方法及曝光系统 [P].

俞庆平 ;

俞逸骐 .

中国专利 :CN118584766A ,2024-09-03

[2]

一种无掩膜投影光刻系统 [P].

游剑锋 ;

李建兵 ;

陈国华 .

中国专利 :CN109557767A ,2019-04-02

[3]

基于FPGA的无掩膜光刻PCB板校正系统及方法 [P].

杨刚 ;

杨越 ;

姜福义 ;

武洋 ;

姚洪涛 .

中国专利 :CN106327491A ,2017-01-11

[4]

无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法 [P].

卢云君 ;

蒋兴华 ;

李显杰 .

中国专利 :CN102566312A ,2012-07-11

[5]

一种新型无掩膜光刻系统及其工艺流程 [P].

张雷 .

中国专利 :CN107561876A ,2018-01-09

[6]

一种新型无掩膜光刻系统及提升其扫描速度的方法 [P].

张雷 .

中国专利 :CN107797394A ,2018-03-13

[7]

一种无掩模光刻系统及其曝光方法 [P].

阮立锋 ;

杨三 ;

汪孝军 .

中国专利 :CN108303858A ,2018-07-20

[8]

提高曝光图形分辨率的控制方法及应用其的无掩膜光刻系统 [P].

田朋飞 ;

谭翠丽 ;

张善端 .

中国专利 :CN118033989A ,2024-05-14

[9]

一种高精度无掩膜激光投影光刻系统及方法 [P].

朱时军 ;

于慢慢 .

中国专利 :CN114924466A ,2022-08-19

[10]

一种无掩膜光刻设备和无掩膜光刻方法 [P].

吴明仓 .

中国专利 :CN112379578A ,2021-02-19

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