无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210009369.X

申请日：

2012-01-13

公开(公告)号：

CN102566312A

公开(公告)日：

2012-07-11

发明(设计)人：

卢云君蒋兴华李显杰

申请人：

申请人地址：

230601 安徽省合肥市经济技术开发区锦绣大道68号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112

代理人：

方峥

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-01-07	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101709586904 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201210009369X 申请公布日:20120711
2012-09-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101324737090 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201210009369X 申请日:20120113
2012-07-11	公开	公开

共 50 条

[1]

控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN113934115A ,2022-01-14

[2]

曝光横竖线宽一致的无掩膜直写光刻机 [P].

吴俊 ;

李文静 ;

李显杰 ;

刘文海 .

中国专利 :CN202383419U ,2012-08-15

[3]

直写式光刻系统中采用灰度方式提高曝光图形质量的方法 [P].

卢云君 ;

李显杰 ;

刘文海 .

中国专利 :CN102621816B ,2012-08-01

[4]

一种在FPGA中实现直写式光刻机数据倾斜的方法 [P].

曹旸 ;

李阳 .

中国专利 :CN104216238B ,2014-12-17

[5]

一种无掩膜光刻系统中曝光图形临近效应校正方法 [P].

陈明勇 .

中国专利 :CN101261441A ,2008-09-10

[6]

直写式光刻机中倾斜式扫描数据的重组方法 [P].

李显杰 .

中国专利 :CN107045265B ,2017-08-15

[7]

直写式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法 [P].

李显杰 ;

董帅 .

中国专利 :CN102902164A ,2013-01-30

[8]

无掩膜光刻机曝光中实时添加字符串的方法 [P].

张爱明 ;

蒋兴华 .

中国专利 :CN102736935A ,2012-10-17

[9]

具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机 [P].

张东涛 .

中国专利 :CN100576089C ,2008-07-30

[10]

具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机 [P].

张东涛 .

中国专利 :CN201159832Y ,2008-12-03

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