曝光横竖线宽一致的无掩膜直写光刻机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120489245.7

申请日：

2011-12-01

公开(公告)号：

CN202383419U

公开(公告)日：

2012-08-15

发明(设计)人：

吴俊李文静李显杰刘文海

申请人：

申请人地址：

230601 安徽省合肥市经开区锦绣大道68号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

合肥金安专利事务所 34114

代理人：

徐伟

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-01-22	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101564734446 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2011204892457 申请日:20111201 授权公告日:20120815 终止日期:20121201
2012-08-15	授权	授权

共 50 条

[1]

用于无掩膜光刻机的曝光镜头及无掩膜光刻机 [P].

桂立 ;

陆永杰 .

中国专利 :CN217238599U ,2022-08-19

[2]

无掩膜直写式光刻机系统中图形数据灰度值的计算方法 [P].

卢云君 ;

蒋兴华 ;

李显杰 .

中国专利 :CN102566312A ,2012-07-11

[3]

具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机 [P].

张东涛 .

中国专利 :CN201159832Y ,2008-12-03

[4]

提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机 [P].

卞洪飞 ;

张辉 ;

叶加良 ;

陈东 .

中国专利 :CN119292005B ,2025-10-10

[5]

提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机 [P].

卞洪飞 ;

张辉 ;

叶加良 ;

陈东 .

中国专利 :CN119292005A ,2025-01-10

[6]

控制直写光刻机曝光的方法、装置和光刻机 [P].

赵美云 .

中国专利 :CN111367147B ,2020-07-03

[7]

一种直写光刻机的曝光系统 [P].

张柯 ;

李伟成 ;

张雷 .

中国专利 :CN112394619A ,2021-02-23

[8]

一种无掩膜激光直写叠加曝光方法 [P].

朱鹏飞 ;

陈林森 ;

胡进 ;

浦东林 ;

袁晓峰 .

中国专利 :CN104298080B ,2015-01-21

[9]

具有超高强度LED光源的无掩膜直写光刻机 [P].

张东涛 .

中国专利 :CN100576089C ,2008-07-30

[10]

无掩膜光刻机控制系统 [P].

叶权 ;

向正西 .

中国专利 :CN208819019U ,2019-05-03

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