在衬底上形成图案化层的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200880023376.7

申请日：

2008-06-30

公开(公告)号：

CN101730938A

公开(公告)日：

2010-06-09

发明(设计)人：

M·A·弗舒伦 H·利夫卡 C·塔纳塞

申请人：

申请人地址：

荷兰艾恩德霍芬

IPC主分类号：

H01L2732

IPC分类号：

H01L5152

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

谢建云;谭祐祥

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-06-09	公开	公开
2018-07-13	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):H01L 27/32 登记生效日:20180625 变更事项:专利权人变更前权利人:皇家飞利浦有限公司变更后权利人:北京小米移动软件有限公司变更事项:地址变更前权利人:荷兰艾恩德霍芬市变更后权利人:北京市海淀区清河中街68号华润五彩城购物中心二期9层01房间
2018-07-13	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L 27/32 变更事项:专利权人变更前:皇家飞利浦电子股份有限公司变更后:皇家飞利浦有限公司变更事项:地址变更前:荷兰艾恩德霍芬变更后:荷兰艾恩德霍芬市
2012-10-10	授权	授权
2010-08-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101004965558 IPC(主分类):H01L 27/32 专利申请号:2008800233767 申请日:20080630

共 14 条

[1]

用于基底上形成纳米图案结构的方法 [P].

黄爽爽 ;

史晓华 .

中国专利 :CN120255270A ,2025-07-04

[2]

用于产生形貌图案化衬底的方法和装置 [P].

托马斯·R·阿尔布雷克特 ;

杨宏渊 .

中国专利 :CN100585490C ,2006-12-20

[3]

用于压印工艺的光敏树脂组合物以及用于在基板之上形成有机层的方法 [P].

南妍熙 ;

金珍郁 ;

宋泰俊 ;

赵圣弼 ;

金柄郁 ;

申承协 ;

宋晙溶 ;

李命洙 .

中国专利 :CN101738860A ,2010-06-16

[4]

一种在人造革上印制花纹的方法 [P].

黄志铭 .

中国专利 :CN1730812A ,2006-02-08

[5]

一种表面图案化有机无机杂化钙钛矿薄膜的制备方法 [P].

邹友生 ;

陆星宇 ;

徐晓宝 .

中国专利 :CN114122266A ,2022-03-01

[6]

一种基于表面预处理的量子点图案制备方法 [P].

王树立 ;

刘时彪 ;

吴挺竹 ;

黎赛军 ;

郭文安 ;

王震 ;

林岳 ;

郭伟杰 ;

陈忠 .

中国专利 :CN114744100B ,2024-10-15

[7]

一种基于表面预处理的量子点图案制备方法 [P].

王树立 ;

刘时彪 ;

吴挺竹 ;

黎赛军 ;

郭文安 ;

王震 ;

林岳 ;

郭伟杰 ;

陈忠 .

中国专利 :CN114744100A ,2022-07-12

[8]

在金属上进行显微复制的方法和装置 [P].

C·布罗姆 ;

O·拉森 .

中国专利 :CN1072993C ,2000-01-12

[9]

纳米压印胶层的制作方法和光学元件 [P].

苑洪钟 ;

曹雪峰 ;

陈远 .

中国专利 :CN113900354B ,2024-03-26

[10]

纳米压印胶层的制作方法和光学元件 [P].

苑洪钟 ;

曹雪峰 ;

陈远 .

中国专利 :CN113900354A ,2022-01-07