光掩膜版及光掩膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910166659.3

申请日：

2009-08-26

公开(公告)号：

CN101661223A

公开(公告)日：

2010-03-03

发明(设计)人：

长濑博幸

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G03F711

IPC分类号：

G03F100

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

朱丹

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-03-03	公开	公开
2012-05-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101355129211 IPC(主分类):G03F 7/11 专利申请号:2009101666593 公开日:20100303

共 50 条

[1]

光掩膜版及其光掩膜 [P].

松本洋介 .

中国专利 :CN101713913A ,2010-05-26

[2]

掩膜板和光掩膜 [P].

服部功 .

中国专利 :CN103955110A ,2014-07-30

[3]

相移空白掩膜和相移光掩膜 [P].

南基守 ;

申澈 ;

李钟华 ;

梁澈圭 ;

金昌俊 ;

申升协 ;

公拮寓 .

中国专利 :CN108957942A ,2018-12-07

[4]

EUV光刻掩膜版 [P].

王光荣 ;

李建新 ;

巫奉伦 ;

夏忠平 .

中国专利 :CN216434662U ,2022-05-03

[5]

光掩模坯件、光掩膜及其制造方法 [P].

吉川博树 ;

稻月判臣 ;

木名濑良纪 ;

冈崎智 ;

原口崇 ;

岩片政秀 ;

高木干夫 ;

福岛祐一 ;

佐贺匡 .

中国专利 :CN101010631A ,2007-08-01

[6]

表膜、表膜用粘合剂、带表膜的光掩膜及半导体元件的制造方法 [P].

矢野浩平 ;

山下泰辉 .

中国专利 :CN103443706B ,2013-12-11

[7]

硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法 [P].

王静 ;

肖楠 ;

宋里千 .

中国专利 :CN111240153B ,2020-06-05

[8]

硬掩膜组合物和硬掩膜及形成图案的方法 [P].

王静 ;

肖楠 ;

宋里千 .

中国专利 :CN111290216B ,2020-06-16

[9]

金属硬掩膜组合物 [P].

D·王 ;

J·孙 ;

P·特雷弗纳斯 ;

K·M·奥康奈尔 .

中国专利 :CN103365085A ,2013-10-23

[10]

掩膜版及其制备方法和蒸镀装置 [P].

魏振业 ;

李瑞涛 ;

曾诚 ;

张宏伟 ;

孙震 ;

马璐蔺 .

中国专利 :CN113088876B ,2021-07-09

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