EUV光刻掩膜版

被引：0

申请号：

CN202122587469.8

申请日：

2021-10-26

公开(公告)号：

CN216434662U

公开(公告)日：

2022-05-03

发明(设计)人：

王光荣李建新巫奉伦夏忠平

申请人：

申请人地址：

362200 福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号

IPC主分类号：

G03F138

IPC分类号：

G03F148

代理机构：

北京聿宏知识产权代理有限公司 11372

代理人：

陈超德;吴昊

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-03	授权	授权

共 50 条

[1]

王伟 ;

詹志锋 ;

王研鑫 .

中国专利 :CN108315712B ,2018-07-24

[2]

孙琳 ;

李露露 ;

王恩霞 ;

李世泰 ;

李慧 .

中国专利 :CN112575288A ,2021-03-30

[3]

黄世雄 ;

文小雪 ;

谢涛峰 ;

黄倍慈 .

中国专利 :CN113481468A ,2021-10-08

[4]

在EUV光刻制程期间使用的EUV掩膜 [P].

M·辛格 .

中国专利 :CN104656367A ,2015-05-27

[5]

在EUV光刻制程期间使用EUV掩膜的方法 [P].

M·辛格 .

中国专利 :CN107193182B ,2017-09-22

[6]

掩膜版的制备方法及掩膜版 [P].

吕磊 ;

隋运武 ;

任清江 ;

林昌廷 ;

汤颖颖 .

中国专利 :CN119491186A ,2025-02-21

[7]

EUV光刻用EUV活性膜 [P].

罗伯特·克拉克 .

日本专利 :CN118284855A ,2024-07-02

[8]

光掩膜版及其光掩膜 [P].

松本洋介 .

中国专利 :CN101713913A ,2010-05-26

[9]

光掩膜版及光掩膜 [P].

长濑博幸 .

中国专利 :CN101661223A ,2010-03-03

[10]

掩膜版及其制备方法 [P].

张峰杰 ;

王伟杰 ;

张可忆 ;

薛金祥 ;

孙中元 .

中国专利 :CN118497664A ,2024-08-16

← 1 2 3 4 5 →