清洁组成物及使用该组成物清洁面板的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080038438.9

申请日：

2010-07-29

公开(公告)号：

CN102639686A

公开(公告)日：

2012-08-15

发明(设计)人：

洪亨杓洪宪杓金泰熙朴勉奎尹嚆重金炳默

申请人：

申请人地址：

韩国全罗北道

IPC主分类号：

C11D732

IPC分类号：

C11D328

代理机构：

北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270

代理人：

武晨燕;周义刚

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-08-15	公开	公开
2012-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101332124180 IPC(主分类):C11D 7/32 专利申请号:2010800384389 申请日:20100729
2014-09-03	授权	授权
2014-09-17	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101705372368 IPC(主分类):C11D 7/32 专利号:ZL2010800384389 变更事项:专利权人变更前:东友 FINE-CHEM 股份有限公司变更后:东友精细化工有限公司变更事项:地址变更前:韩国全罗北道变更后:韩国全罗北道

共 50 条

[1]

清洁组成物及其使用方法 [P].

李巍 ;

胡斌 ;

杉村宣明 .

美国专利 :CN120981560A ,2025-11-18

[2]

蚀刻液组成物及使用该蚀刻液组成物的蚀刻方法 [P].

吕志鹏 ;

陈韵慈 ;

廖本男 ;

李懿 .

中国专利 :CN108998032B ,2018-12-14

[3]

口腔清洁剂组成物及牙膏、牙粉组成物 [P].

青木秀希 .

中国专利 :CN1169516C ,2000-02-16

[4]

光刻胶脱膜组成物及使用该组成物的模型形成方法 [P].

吉埈仍 ;

任兴彬 .

中国专利 :CN100334508C ,2004-07-28

[5]

底漆组成物与使用该底漆组成物的铜箔基板 [P].

黄仕颖 ;

唐瑞祥 .

中国专利 :CN109385174B ,2019-02-26

[6]

爆炸火药组成物及使用该组成物的爆炸装置 [P].

吴思华 ;

吴茂荣 ;

吴蕙如 .

中国专利 :CN104649852A ,2015-05-27

[7]

黑色光敏树脂组成物及使用该组成物的遮光层 [P].

崔玄武 ;

安暻源 ;

柳娥凛 ;

任宰范 ;

田桓承 ;

郑周昊 .

中国专利 :CN104756011A ,2015-07-01

[8]

半导体光刻胶组成物及使用该组成物形成图案的方法 [P].

任相均 ;

金铃根 ;

文成日 ;

司空峻 .

韩国专利 :CN121232525A ,2025-12-30

[9]

低发烟高阻燃环氧树脂组成物及使用该组成物制备固化物的方法 [P].

川本俊彦 ;

金威 ;

方博 .

中国专利 :CN108164929A ,2018-06-15

[10]

用于氮化硅的蚀刻组成物及使用该蚀刻组成物的蚀刻方法 [P].

黄基煜 ;

高尙兰 ;

赵娟振 ;

崔正敏 ;

韩权愚 ;

张俊英 ;

尹龙云 .

中国专利 :CN112166167B ,2021-01-01

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