蚀刻液组成物及使用该蚀刻液组成物的蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810568337.0

申请日：

2018-06-05

公开(公告)号：

CN108998032B

公开(公告)日：

2018-12-14

发明(设计)人：

吕志鹏陈韵慈廖本男李懿

申请人：

申请人地址：

中国台湾桃园市芦竹区南崁路2段222号6楼

IPC主分类号：

C09K1302

IPC分类号：

H01L21306 H01L213213

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

崔亚松

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-01-08	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 13/02 申请日:20180605
2018-12-14	公开	公开
2021-06-04	授权	授权

共 50 条

[1]

蚀刻液组成物 [P].

李昔准 ;

慎蕙驘 ;

权五柄 ;

李喻珍 .

中国专利 :CN102753652B ,2012-10-24

[2]

蚀刻液组成物 [P].

慎蕙驘 ;

刘仁浩 ;

权五柄 ;

李喻珍 .

中国专利 :CN102597163B ,2012-07-18

[3]

蚀刻液组成物及其蚀刻方法 [P].

陈政裕 ;

陈怡静 ;

张景棠 .

中国专利 :CN117467442A ,2024-01-30

[4]

蚀刻液组合物及使用该蚀刻液组合物的蚀刻方法 [P].

廖本男 ;

廖伯轩 ;

张善钧 ;

李盈壕 ;

吕志鹏 .

中国专利 :CN105887089B ,2016-08-24

[5]

用于氮化硅的蚀刻组成物及使用该蚀刻组成物的蚀刻方法 [P].

黄基煜 ;

高尙兰 ;

赵娟振 ;

崔正敏 ;

韩权愚 ;

张俊英 ;

尹龙云 .

中国专利 :CN112166167B ,2021-01-01

[6]

用于铜/钼金属的蚀刻液组成物及蚀刻方法 [P].

林震威 ;

蔡墨勋 .

中国专利 :CN101418449A ,2009-04-29

[7]

蚀刻液组成物及其应用 [P].

张伟明 ;

朱旺 ;

章学春 ;

衡京 ;

聂航 .

中国专利 :CN120758882A ,2025-10-10

[8]

蚀刻组成物 [P].

水谷笃史 .

美国专利 :CN120981430A ,2025-11-18

[9]

蚀刻组成物 [P].

D·迪内加 ;

T·多瑞 .

美国专利 :CN119013768A ,2024-11-22

[10]

蚀刻液、该蚀刻液的制造方法和使用该蚀刻液的蚀刻方法 [P].

河野良 ;

加藤胜 .

中国专利 :CN103132078A ,2013-06-05

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