避免研磨浆料残留的化学机械研磨方法及设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510075925.3

申请日：

2005-06-01

公开(公告)号：

CN100385632C

公开(公告)日：

2006-12-06

发明(设计)人：

邓清文高明星林进坤蔡尔扬刘丽莉

申请人：

申请人地址：

台湾省新竹科学工业园区

IPC主分类号：

H01L21304

IPC分类号：

H01L21306 B24B100 B24B722 B24B3704

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

魏晓刚;李晓舒

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-01-31	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-12-06	公开	公开
2008-04-30	授权	授权

共 50 条

[1]

化学机械研磨设备及化学机械研磨方法 [P].

李福洪 .

中国专利 :CN101362313B ,2009-02-11

[2]

化学机械研磨浆料及化学机械研磨方法 [P].

孙旭昌 ;

陈科维 ;

陈亮光 .

中国专利 :CN109571240A ,2019-04-05

[3]

化学机械研磨设备及其防止化学机械研磨残留的方法 [P].

丁弋 ;

樊文斌 .

中国专利 :CN104128874A ,2014-11-05

[4]

一种化学机械研磨装置及化学机械研磨方法 [P].

史超 ;

赵雪峰 ;

贾海卫 .

中国专利 :CN108284383B ,2018-07-17

[5]

化学机械研磨方法 [P].

朱辛堃 ;

蔡腾群 ;

杨凯钧 ;

李志岳 .

中国专利 :CN100468646C ,2006-08-09

[6]

研磨垫处理方法及化学机械研磨设备 [P].

李武祥 ;

程建秀 ;

许玉媛 .

中国专利 :CN112171513A ,2021-01-05

[7]

研磨液及化学机械研磨方法 [P].

李健 ;

刘俊良 .

中国专利 :CN101457136A ,2009-06-17

[8]

化学机械研磨设备及化学机械研磨的方法 [P].

王贤超 ;

奚民伟 .

中国专利 :CN104827383A ,2015-08-12

[9]

化学机械研磨设备研磨头的清洗方法 [P].

陈增祥 ;

杨波 ;

王亦磊 ;

贾广森 .

中国专利 :CN101456161A ,2009-06-17

[10]

化学机械研磨设备 [P].

岳志刚 ;

辛君 ;

林宗贤 ;

吴龙江 .

中国专利 :CN209970441U ,2020-01-21

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