金属氧化物半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910202702.0
申请日
2019-03-18
公开(公告)号
CN109817585A
公开(公告)日
2019-05-28
发明(设计)人
徐秋霞 胡正明 陈凯
申请人
申请人地址
201899 上海市嘉定区菊园新区环城路2222号1幢J2015室
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
H01L27092
代理机构
北京成创同维知识产权代理有限公司 11449
代理人
蔡纯
法律状态
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国省代码
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共 50 条
[1]
金属氧化物半导体器件制作方法和金属氧化物半导体器件 [P]. 
刘竹 ;
马万里 .
中国专利 :CN104867829A ,2015-08-26
[2]
金属氧化物半导体器件及其制造方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN101621071B ,2010-01-06
[3]
金属氧化物半导体器件及其制造方法 [P]. 
上田岳洋 .
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[4]
金属氧化物半导体器件及其制造方法 [P]. 
叶好华 ;
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[5]
金属氧化物半导体器件及其制造方法 [P]. 
李煜 ;
何学缅 ;
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金属氧化物半导体器件及其制造方法 [P]. 
S·M·潘迪 .
美国专利 :CN118198124A ,2024-06-14
[7]
金属氧化物半导体器件及其制造方法 [P]. 
游步东 ;
夏春新 .
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[8]
金属氧化物半导体器件的制造方法 [P]. 
朱峰 ;
张海洋 ;
陈海华 ;
黄怡 .
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[9]
金属氧化物半导体器件的制造方法 [P]. 
张海洋 ;
刘乒 ;
马擎天 .
中国专利 :CN100468635C ,2008-03-12
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横向扩散金属氧化物半导体器件及其制造方法 [P]. 
韩广涛 .
中国专利 :CN104900694A ,2015-09-09