一种光刻胶的去除液及光刻胶的去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710657370.6

申请日：

2017-08-03

公开(公告)号：

CN109388036A

公开(公告)日：

2019-02-26

发明(设计)人：

温子瑛孙富成王致凯

申请人：

申请人地址：

214135 江苏省无锡市震泽路18号鲸鱼座A栋1楼

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

无锡中瑞知识产权代理有限公司 32259

代理人：

张倪涛

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-26	公开	公开
2020-06-12	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回 IPC(主分类):G03F 7/42 申请公布日:20190226
2019-09-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20170803

共 50 条

[1]

一种含有四烷基氢氧化铵的光刻胶去除液及光刻胶的去除方法 [P].

温子瑛 ;

孙富成 ;

王致凯 .

中国专利 :CN109686664A ,2019-04-26

[2]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

[3]

光刻胶去除设备及光刻胶去除方法 [P].

邢程 ;

朱振华 .

中国专利 :CN113687575A ,2021-11-23

[4]

光刻胶去除装置和去除光刻胶的方法 [P].

张凇铭 ;

惠世鹏 ;

刘效岩 .

中国专利 :CN111610698A ,2020-09-01

[5]

光刻胶的去除方法 [P].

王兆祥 ;

杜若昕 ;

杨平 ;

刘志强 .

中国专利 :CN102610511A ,2012-07-25

[6]

光刻胶去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

李程 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN104391434A ,2015-03-04

[7]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[8]

光刻胶的去除方法 [P].

李俊良 .

中国专利 :CN102768476A ,2012-11-07

[9]

光刻胶的去除方法 [P].

郭佳衢 ;

刘焕新 .

中国专利 :CN101211125A ,2008-07-02

[10]

光刻胶的去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN103646873A ,2014-03-19

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