具有高效清洁能力的化学气相沉积设备及半导体工艺方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010515432.1

申请日：

2020-06-09

公开(公告)号：

CN111424260A

公开(公告)日：

2020-07-17

发明(设计)人：

周云宋维聪

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区郭守敬路498号8幢19501-19503室

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

H01L2167

代理机构：

上海光华专利事务所(普通合伙) 31219

代理人：

余明伟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-11	授权	授权
2020-08-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20200609
2020-07-17	公开	公开

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备的清洁方法 [P].

赖建兴 ;

王俊宜 .

中国专利 :CN100549226C ,2007-10-31

[2]

制造半导体发光器件的方法以及化学气相沉积设备 [P].

韩尚宪 ;

金南星 ;

金东俊 ;

司空坦 ;

申东益 ;

李焘英 ;

李庭旭 .

中国专利 :CN103996753A ,2014-08-20

[3]

化学气相沉积设备的安装方法及化学气相沉积设备 [P].

沈建飞 ;

徐皓 ;

潘雯海 ;

胡小栋 .

中国专利 :CN101994100A ,2011-03-30

[4]

化学气相沉积载台结构及化学气相沉积设备 [P].

朱合意 ;

贾钊 ;

窦志珍 ;

胡恒广 .

中国专利 :CN222524669U ,2025-02-25

[5]

用以制造半导体装置的化学气相沉积设备的喷头 [P].

李承善 ;

徐现模 .

中国专利 :CN1319126C ,2003-10-22

[6]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[7]

化学气相沉积设备的气路结构及化学气相沉积设备 [P].

卢山 ;

陈神星 ;

姜鼎 ;

黄荣 .

中国专利 :CN216473473U ,2022-05-10

[8]

针对晶圆晶边的化学气相沉积工艺腔及化学气相沉积方法 [P].

范荣伟 ;

龙吟 ;

顾晓芳 ;

陈宏璘 .

中国专利 :CN105040097A ,2015-11-11

[9]

化学气相沉积设备及使用其形成半导体外延薄膜的方法 [P].

孟钟先 ;

金荣善 ;

沈炫旭 ;

金晟泰 .

中国专利 :CN102330072A ,2012-01-25

[10]

一种化学气相沉积设备的清洁方法 [P].

卢嘉 .

中国专利 :CN114369812A ,2022-04-19

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