一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201920433680.4
申请日
2019-04-01
公开(公告)号
CN209791522U
公开(公告)日
2019-12-17
发明(设计)人
欧阳军 朱威
申请人
申请人地址
518000 广东省深圳市龙岗区宝龙街道宝龙社区宝龙四路2号安博科技宝龙厂区3号厂房1楼
IPC主分类号
B01J1908
IPC分类号
B01J303
代理机构
深圳市中科创为专利代理有限公司 44384
代理人
梁炎芳;谭雪婷
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备 [P]. 
欧阳军 ;
朱威 .
中国专利 :CN109865484A ,2019-06-11
[2]
一种颗粒和粉体材料三维等离子体表面处理设备 [P]. 
余鉴升 .
中国专利 :CN212915619U ,2021-04-09
[3]
等离子体表面处理设备 [P]. 
万良淏 ;
徐龙 ;
万京林 .
中国专利 :CN211238156U ,2020-08-11
[4]
等离子体表面处理设备和等离子体设备腔体结构 [P]. 
唐玄玄 ;
彭帆 .
中国专利 :CN107424897B ,2017-12-01
[5]
一种粉体材料表面低温等离子体处理装置 [P]. 
王红卫 .
中国专利 :CN202205701U ,2012-04-25
[6]
一种超细粉体材料等离子体表面处理设备 [P]. 
王英 ;
刘鑫培 .
中国专利 :CN110508561B ,2019-11-29
[7]
真空等离子体表面处理设备 [P]. 
刘善双 ;
毕学谦 ;
刘镇伟 .
中国专利 :CN203691734U ,2014-07-02
[8]
真空等离子体表面处理设备 [P]. 
刘善双 ;
毕学谦 ;
刘镇伟 .
中国专利 :CN203667694U ,2014-06-25
[9]
一种粉体材料表面等离子体处理装置 [P]. 
沈文凯 ;
王红卫 .
中国专利 :CN203562396U ,2014-04-23
[10]
一种液冷低温等离子体表面处理设备 [P]. 
万良淏 ;
施远帆 ;
戴阳 ;
万京林 .
中国专利 :CN220651938U ,2024-03-22