半导体结构及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710952758.9
申请日
2017-10-13
公开(公告)号
CN109671673A
公开(公告)日
2019-04-23
发明(设计)人
周飞
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L218234
IPC分类号
H01L2128 H01L27088 H01L29423
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
高磊;吴敏
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王智东 ;
张冬平 .
中国专利 :CN110164760A ,2019-08-23
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
尹海洲 ;
骆志炯 ;
朱慧珑 .
中国专利 :CN102104070B ,2011-06-22
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN109087887B ,2018-12-25
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
陈世杰 ;
王文武 ;
王晓磊 ;
韩锴 .
中国专利 :CN102237398A ,2011-11-09
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
蔡巧明 .
中国专利 :CN114664915B ,2025-12-05
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
李勇 .
中国专利 :CN108987248A ,2018-12-11
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
蔡巧明 .
中国专利 :CN114664915A ,2022-06-24
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN109980004A ,2019-07-05
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
邓浩 ;
徐建华 .
中国专利 :CN109285879A ,2019-01-29
[10]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN108573868A ,2018-09-25