磁控溅射镀膜装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110160432.5
申请日
2011-06-15
公开(公告)号
CN102212779A
公开(公告)日
2011-10-12
发明(设计)人
赵红艳 钱涛
申请人
申请人地址
215022 江苏省苏州市工业园区唯新路81号
IPC主分类号
C23C1404
IPC分类号
C23C1435
代理机构
南京苏科专利代理有限责任公司 32102
代理人
陆明耀;陈忠辉
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种磁控溅射镀膜装置 [P]. 
赵红艳 ;
钱涛 .
中国专利 :CN202157113U ,2012-03-07
[2]
磁控溅射镀膜装置 [P]. 
张春杰 .
中国专利 :CN103898462B ,2014-07-02
[3]
磁控溅射镀膜用的靶材组成及磁控溅射镀膜装置 [P]. 
李长春 ;
蒙峻 ;
焦纪强 ;
罗成 ;
魏宁斐 ;
刘建龙 ;
姚鹏 .
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[4]
磁控溅射镀膜阴极装置 [P]. 
白振中 ;
江少华 .
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[5]
磁控溅射镀膜装置 [P]. 
黄登聪 ;
彭立全 .
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[6]
磁控溅射镀膜装置 [P]. 
王鲁南 ;
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窦立峰 .
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[7]
磁控溅射镀膜装置 [P]. 
任远 ;
杜煦 ;
徐靖 ;
聂闯闯 ;
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中国专利 :CN117604476A ,2024-02-27
[8]
磁控溅射镀膜装置 [P]. 
王鲁南 ;
王建华 ;
窦立峰 .
中国专利 :CN203683655U ,2014-07-02
[9]
磁控溅射镀膜装置 [P]. 
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[10]
磁控溅射镀膜装置 [P]. 
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