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磁控溅射镀膜装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201910369473.1
申请日
:
2019-05-05
公开(公告)号
:
CN111893445A
公开(公告)日
:
2020-11-06
发明(设计)人
:
王培红
李晨光
胡国栋
申请人
:
申请人地址
:
330013 江西省南昌市昌北经济开发区黄家湖西路欧菲光科技园
IPC主分类号
:
C23C1435
IPC分类号
:
C23C1456
代理机构
:
广州三环专利商标代理有限公司 44202
代理人
:
郝传鑫;熊永强
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-11-06
公开
公开
共 50 条
[1]
磁控溅射镀膜阴极装置
[P].
白振中
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0
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白振中
;
江少华
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江少华
.
中国专利
:CN101812667A
,2010-08-25
[2]
磁控溅射镀膜装置
[P].
黄登聪
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黄登聪
;
彭立全
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彭立全
.
中国专利
:CN103031527A
,2013-04-10
[3]
磁控溅射镀膜装置
[P].
王鲁南
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王鲁南
;
王建华
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王建华
;
窦立峰
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窦立峰
.
中国专利
:CN103789739A
,2014-05-14
[4]
磁控溅射镀膜装置
[P].
任远
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机构:
北京创世威纳科技有限公司
北京创世威纳科技有限公司
任远
;
杜煦
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机构:
北京创世威纳科技有限公司
北京创世威纳科技有限公司
杜煦
;
徐靖
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机构:
北京创世威纳科技有限公司
北京创世威纳科技有限公司
徐靖
;
聂闯闯
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机构:
北京创世威纳科技有限公司
北京创世威纳科技有限公司
聂闯闯
;
李衍辉
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机构:
北京创世威纳科技有限公司
北京创世威纳科技有限公司
李衍辉
.
中国专利
:CN117604476A
,2024-02-27
[5]
磁控溅射镀膜装置
[P].
王鲁南
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王鲁南
;
王建华
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王建华
;
窦立峰
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窦立峰
.
中国专利
:CN203683655U
,2014-07-02
[6]
磁控溅射镀膜装置
[P].
赵红艳
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赵红艳
;
钱涛
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钱涛
.
中国专利
:CN102212779A
,2011-10-12
[7]
磁控溅射镀膜装置
[P].
唐莲
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唐莲
;
杨恒
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杨恒
;
孙桂红
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孙桂红
;
祝海生
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祝海生
;
黄乐
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黄乐
;
黄国兴
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黄国兴
.
中国专利
:CN112342516A
,2021-02-09
[8]
磁控溅射镀膜装置
[P].
杜志游
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杜志游
;
郭世平
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郭世平
.
中国专利
:CN212375363U
,2021-01-19
[9]
磁控溅射镀膜装置
[P].
李磊
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机构:
深圳综合粒子设施研究院
深圳综合粒子设施研究院
李磊
;
刘鹏飞
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深圳综合粒子设施研究院
深圳综合粒子设施研究院
刘鹏飞
;
雷艳辉
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深圳综合粒子设施研究院
深圳综合粒子设施研究院
雷艳辉
;
朱潇潇
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深圳综合粒子设施研究院
深圳综合粒子设施研究院
朱潇潇
.
中国专利
:CN220432955U
,2024-02-02
[10]
磁控溅射镀膜装置
[P].
张春杰
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张春杰
.
中国专利
:CN103898462B
,2014-07-02
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