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磁控溅射镀膜装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311862751.X
申请日：
2023-12-29
公开(公告)号：
CN117604476A
公开(公告)日：
2024-02-27
发明(设计)人：
任远
杜煦
徐靖
聂闯闯
李衍辉
申请人：
北京创世威纳科技有限公司
申请人地址：
102200 北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层
IPC主分类号：
C23C14/35
IPC分类号：
C23C14/50
代理机构：
北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463
代理人：
陶程程
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
北京市
市辖区
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-03-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/35申请日:20231229 |
| 2024-02-27 | 公开 | 公开 |
| 2025-09-05 | 著录事项变更 | 著录事项变更IPC(主分类):C23C 14/35变更事项:申请人变更前:北京创世威纳科技有限公司变更后:山东创世威纳科技有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:北京市昌平区回龙观北京国际信息产业基地高新二街2号4层变更后:250011 山东省济南市历下区大明湖街道按察司街70号1层101 |