一种远程等离子源真空腔体

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202121845492.6
申请日
2021-08-09
公开(公告)号
CN216015288U
公开(公告)日
2022-03-11
发明(设计)人
张德才 洪靖为
申请人
申请人地址
201100 上海市闵行区东川路555号戊楼5117室
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
代理机构
上海创开专利代理事务所(普通合伙) 31374
代理人
汪发成
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种远程等离子源真空腔体 [P]. 
张德才 ;
洪靖为 .
中国专利 :CN113889393A ,2022-01-04
[2]
一种远程等离子源真空腔体 [P]. 
张德才 ;
洪靖为 .
中国专利 :CN113889393B ,2025-04-25
[3]
一种远程等离子源腔体 [P]. 
黄星星 ;
杨振怀 ;
郭晓东 ;
胡强 ;
侯少毅 .
中国专利 :CN119255467B ,2025-11-14
[4]
一种远程等离子源腔体 [P]. 
黄星星 ;
杨振怀 ;
郭晓东 ;
胡强 ;
侯少毅 .
中国专利 :CN119255467A ,2025-01-03
[5]
一种远程等离子源解离腔体组件 [P]. 
张德才 ;
洪靖为 ;
黄影 .
中国专利 :CN218041882U ,2022-12-13
[6]
一种远程等离子源陶瓷反应腔体及带有该腔体的等离子源 [P]. 
张德才 ;
洪靖为 .
中国专利 :CN114999884B ,2025-01-28
[7]
一种远程等离子源陶瓷反应腔体及带有该腔体的等离子源 [P]. 
张德才 ;
洪靖为 .
中国专利 :CN114999884A ,2022-09-02
[8]
一种远程等离子源解离腔体组件 [P]. 
张德才 ;
洪靖为 .
中国专利 :CN115002997A ,2022-09-02
[9]
一种远程等离子源解离腔体组件 [P]. 
张德才 ;
洪靖为 .
中国专利 :CN115002997B ,2025-11-04
[10]
等离子处理真空腔体结构 [P]. 
罗弦 .
中国专利 :CN211455641U ,2020-09-08