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一种阴极结构、电化学抛光槽及电化学抛光设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201920917050.4
申请日：
2019-06-18
公开(公告)号：
CN210287576U
公开(公告)日：
2020-04-10
发明(设计)人：
黄峰
王湘鸣
尹亚丽
赵婧
陈国明
李雨
申请人：
申请人地址：
201203 上海市浦东新区张江高科技园区牛顿路501号
IPC主分类号：
C25F700
IPC分类号：
C25F316
代理机构：
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人：
王宏婧
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-04-10 | 授权 | 授权 |