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成膜方法和成膜装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010788135.4
申请日
:
2020-08-07
公开(公告)号
:
CN112391612A
公开(公告)日
:
2021-02-23
发明(设计)人
:
羽根秀臣
小山峻史
大槻志门
向山廉
吹上纪明
小川淳
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
C23C16455
IPC分类号
:
C23C1634
C23C16458
C23C1650
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇;李茂家
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-02-25
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20200807
2021-02-23
公开
公开
共 50 条
[1]
成膜方法和成膜装置
[P].
羽根秀臣
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
羽根秀臣
;
小山峻史
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小山峻史
;
大槻志门
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大槻志门
;
向山廉
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
向山廉
;
吹上纪明
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
吹上纪明
;
小川淳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小川淳
.
日本专利
:CN112391612B
,2024-07-09
[2]
成膜方法和成膜装置
[P].
羽根秀臣
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羽根秀臣
;
大槻志门
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大槻志门
;
小山峻史
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小山峻史
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向山廉
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向山廉
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小川淳
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小川淳
;
吹上纪明
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吹上纪明
.
中国专利
:CN112391607A
,2021-02-23
[3]
成膜方法和成膜装置
[P].
羽根秀臣
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
羽根秀臣
;
大槻志门
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大槻志门
;
小山峻史
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小山峻史
;
向山廉
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
向山廉
;
小川淳
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小川淳
;
吹上纪明
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
吹上纪明
.
日本专利
:CN112391607B
,2024-11-05
[4]
成膜方法和成膜装置
[P].
小川淳
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小川淳
;
吹上纪明
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吹上纪明
.
中国专利
:CN112410753A
,2021-02-26
[5]
成膜方法和成膜装置
[P].
小川淳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小川淳
;
吹上纪明
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
吹上纪明
.
日本专利
:CN112410753B
,2024-08-30
[6]
氮化硅膜的成膜方法和成膜装置
[P].
加藤寿
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加藤寿
;
高桥豊
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高桥豊
;
久保万身
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久保万身
.
中国专利
:CN109385626A
,2019-02-26
[7]
成膜方法和成膜装置
[P].
小野寺聪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小野寺聪
;
户根川大和
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
户根川大和
;
小川淳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小川淳
.
日本专利
:CN118086867A
,2024-05-28
[8]
成膜方法和成膜装置
[P].
松本贤治
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松本贤治
;
伊藤仁
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伊藤仁
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根石浩司
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根石浩司
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小池淳一
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小池淳一
.
中国专利
:CN102306627A
,2012-01-04
[9]
成膜方法和成膜装置
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松永正信
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松永正信
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铃木启介
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铃木启介
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张宰赫
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张宰赫
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周保华
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周保华
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米泽雅人
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米泽雅人
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长谷川雅之
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长谷川雅之
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长谷部一秀
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长谷部一秀
.
中国专利
:CN102097302A
,2011-06-15
[10]
成膜装置和成膜方法
[P].
佐佐木和男
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木和男
;
町山弥
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
町山弥
;
齐藤均
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
齐藤均
;
佐佐木芳彦
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木芳彦
.
日本专利
:CN115522181B
,2024-07-30
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