具有低介电常数的多孔硅石涂层、半导体设备和涂料组合物

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN00810212.0

申请日：

2000-06-20

公开(公告)号：

CN1196649C

公开(公告)日：

2002-07-24

发明(设计)人：

青木伦子清水泰雄

申请人：

申请人地址：

瑞士穆滕茨1(CH－4132)茹索茨大街61号

IPC主分类号：

C01B3312

IPC分类号：

H01L21312 H01L21768 C09D18316 C09D13300

代理机构：

北京三幸商标专利事务所

代理人：

刘激扬

法律状态：

公开

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

具有低介电常数的多孔硅质膜和半导体装置及涂料组合物 [P].

青木伦子 ;

清水泰雄 .

中国专利 :CN1261509C ,2003-10-15

[2]

涂料组合物、多孔硅质膜、用于制备多孔硅质膜的方法以及半导体装置 [P].

青木伦子 ;

青木宏幸 .

中国专利 :CN1328346C ,2006-05-31

[3]

硅基组合物、低介电常数膜、半导体器件以及制造低介电常数膜的方法 [P].

中田义弘 ;

铃木克己 ;

杉浦严 ;

矢野映 .

中国专利 :CN1376740A ,2002-10-30

[4]

具有低介电常数间隔物的半导体结构及其制造方法 [P].

王祥保 ;

卢一斌 .

中国专利 :CN108231875A ,2018-06-29

[5]

制备低介电常数薄膜的方法和半导体结构 [P].

许正昱 ;

韩萍 ;

何忧 .

中国专利 :CN121087464A ,2025-12-09

[6]

一种半导体涂料组合物和光学半导体装置 [P].

褚雨露 ;

侯军 ;

贺剑锋 ;

张楠 .

中国专利 :CN117736620A ,2024-03-22

[7]

具有低介电常数绝缘膜的半导体器件及其制造方法 [P].

宇佐美达矢 ;

小田典明 .

中国专利 :CN1139977C ,1999-07-28

[8]

具有低介电常数介电层的半导体元件的制造方法 [P].

郑双铭 ;

叶明灵 ;

包天一 ;

林耕竹 .

中国专利 :CN100369233C ,2006-08-09

[9]

以低介电常数内连线隔离的半导体芯片 [P].

刘继文 ;

江国庆 ;

曾鸿辉 ;

章勋明 .

中国专利 :CN1770449A ,2006-05-10

[10]

低介电常数低损耗的组合物 [P].

刘若鹏 ;

徐冠雄 ;

胡侃 .

中国专利 :CN102702677A ,2012-10-03

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法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2002-07-24	公开	公开
2003-11-12	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移	专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移变更事项:申请人变更前权利人:东燃杰纳尔石油株式会社变更后权利人:克拉瑞特国际有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本东京变更后权利人:瑞士穆滕茨1(CH-4132)茹索茨大街61号登记生效日:20030918
2015-04-29	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101714318313 IPC(主分类):C01B 33/12 专利号:ZL008102120 变更事项:专利权人变更前权利人:AZ电子材料IP(日本)株式会社变更后权利人:默克专利有限公司变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:德国达姆施塔特登记生效日:20150408
2012-07-04	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101393326820 IPC(主分类):C01B 33/12 专利号:ZL008102120 变更事项:专利权人变更前权利人:AZ电子材料(日本)株式会社变更后权利人:AZ电子材料IP(日本)株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本东京都登记生效日:20120523
2002-08-14	实质审查的生效	实质审查的生效
2005-04-27	专利申请权、专利权的转移专利权的转移	专利申请权、专利权的转移专利权的转移变更事项:专利权人变更前权利人:克拉瑞特国际有限公司变更后权利人:AZ电子材料（日本）株式会社变更事项:地址变更前权利人:瑞士穆滕茨1(CH-4132)茹索茨大街61号变更后权利人:日本东京都登记生效日:20050318
2020-06-23	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C01B 33/12 申请日:20000620 授权公告日:20050413 终止日期:20190620
2005-04-13	授权	授权