一种高选择性锗蚀刻液

被引：0

申请号：

CN202211145213.4

申请日：

2022-09-20

公开(公告)号：

CN115505390A

公开(公告)日：

2022-12-23

发明(设计)人：

彭浩尹印叶瑞倪高国余迪万杨阳贺兆波张庭王亮

申请人：

申请人地址：

443007 湖北省宜昌市猇亭区猇亭大道66-3号

IPC主分类号：

C09K1300

IPC分类号：

H01L21306

代理机构：

宜昌市三峡专利事务所 42103

代理人：

成钢

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 13/00 申请日:20220920
2022-12-23	公开	公开

共 50 条

[1]

一种高选择性的掺碳Poly蚀刻液及其制备和蚀刻方法 [P].

彭浩 ;

贺兆波 ;

叶瑞 ;

尹印 ;

冯凯 ;

罗昭 .

中国专利 :CN117866636A ,2024-04-12

[2]

一种高蚀刻锥角的锗蚀刻液 [P].

尹印 ;

陈麒 ;

余迪 ;

彭浩 ;

万杨阳 ;

贺兆波 ;

张庭 ;

冯凯 ;

王书萍 .

中国专利 :CN114316990A ,2022-04-12

[3]

一种选择性硅蚀刻液 [P].

李少平 ;

郝晓斌 ;

尹印 ;

贺兆波 ;

张庭 ;

万杨阳 ;

冯凯 ;

王书萍 ;

张演哲 ;

蔡步林 .

中国专利 :CN111019659A ,2020-04-17

[4]

一种SiGe和Si的选择性蚀刻液 [P].

余迪 ;

尹印 ;

贺兆波 ;

王亮 ;

万杨阳 ;

彭浩 ;

张庭 ;

陈麒 ;

叶瑞 .

中国专利 :CN115595154B ,2024-08-13

[5]

一种SiGe和Si的选择性蚀刻液 [P].

余迪 ;

尹印 ;

贺兆波 ;

王亮 ;

万杨阳 ;

彭浩 ;

张庭 ;

陈麒 ;

叶瑞 .

中国专利 :CN115595154A ,2023-01-13

[6]

一种高选择性的蚀刻液 [P].

张庭 ;

贺兆波 ;

李鑫 ;

李金航 ;

尹印 ;

万杨阳 ;

王书萍 ;

倪高国 .

中国专利 :CN112608754B ,2021-04-06

[7]

一种相对于叠层金属选择性蚀刻AlCu层的蚀刻液及其制备方法 [P].

彭浩 ;

尹印 ;

万杨阳 ;

贺兆波 ;

张庭 ;

余迪 ;

王亮 ;

叶瑞 .

中国专利 :CN116240548B ,2025-01-14

[8]

一种选择性BOE蚀刻液 [P].

杨华春 ;

栗广奉 ;

闫春生 ;

杨水艳 ;

韩广欣 ;

王泽国 ;

尚钟声 ;

叶文豪 ;

吴海峰 ;

李霞 .

中国专利 :CN117511549A ,2024-02-06

[9]

一种高选择性的缓冲氧化物蚀刻液 [P].

李金航 ;

李鑫 ;

张庭 ;

贺兆波 ;

尹印 ;

冯凯 ;

王书萍 ;

万杨阳 ;

钟昌东 ;

武昊冉 ;

罗海燕 .

中国专利 :CN114891509A ,2022-08-12

[10]

一种选择性蚀刻液 [P].

叶瑞 ;

贺兆波 ;

冯凯 ;

崔会东 ;

王书萍 ;

班昌胜 ;

张庭 ;

严凡 ;

樊澌 .

中国专利 :CN117384642A ,2024-01-12

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