一种等离子增强化学气相沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010895149.6

申请日：

2020-08-31

公开(公告)号：

CN111850519A

公开(公告)日：

2020-10-30

发明(设计)人：

左桂松董晓清

申请人：

申请人地址：

214000 江苏省无锡市新区硕放工业集中区五期C20-2号地块

IPC主分类号：

C23C1650

IPC分类号：

C23C16458

代理机构：

无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260

代理人：

曹慧萍

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-10-30	公开	公开
2022-03-18	著录事项变更	著录事项变更 IPC(主分类):C23C 16/50 变更事项:申请人变更前:无锡市江松科技有限公司变更后:无锡江松科技股份有限公司变更事项:地址变更前:214000 江苏省无锡市新区硕放工业集中区五期C20-2号地块变更后:214000 江苏省无锡市新吴区硕放长江东路208号
2020-11-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/50 申请日:20200831

共 50 条

[1]

一种等离子增强化学气相沉积装置 [P].

左桂松 ;

董晓清 .

中国专利 :CN212640605U ,2021-03-02

[2]

等离子增强化学气相沉积装置 [P].

郑建毅 ;

杨群峰 ;

庄明凤 ;

郑高峰 ;

马少宇 .

中国专利 :CN103789750B ,2014-05-14

[3]

等离子增强化学气相沉积装置 [P].

郑敬锡 ;

尤沙科夫·安德瑞 ;

朴宣美 ;

郑和俊 ;

金应秀 .

中国专利 :CN100529176C ,2007-03-07

[4]

等离子增强化学气相沉积设备 [P].

T·佩尔瑙 ;

S·H·舒尔茨 .

中国专利 :CN211947211U ,2020-11-17

[5]

一种等离子增强化学气相沉积装置和沉积方法 [P].

孙文彬 ;

刘龙龙 .

中国专利 :CN114686860B ,2022-07-01

[6]

一种等离子增强化学气相沉积装置及其沉积方法 [P].

戴建波 ;

刘龙龙 .

中国专利 :CN115354310A ,2022-11-18

[7]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN120231033A ,2025-07-01

[8]

一种自调平等离子增强化学气相沉积装置 [P].

戴建波 ;

陆北源 .

中国专利 :CN115233192B ,2023-02-03

[9]

等离子增强化学气相沉积的方法及系统 [P].

范振华 .

中国专利 :CN101965417A ,2011-02-02

[10]

用于等离子增强化学气相沉积处理的处理装置 [P].

J·克什鲍默 .

:CN119213166A ,2024-12-27

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