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一种等离子增强化学气相沉积装置和沉积方法
被引:0
申请号
:
CN202210611927.3
申请日
:
2022-06-01
公开(公告)号
:
CN114686860B
公开(公告)日
:
2022-07-01
发明(设计)人
:
孙文彬
刘龙龙
申请人
:
申请人地址
:
226400 江苏省南通市如东县掘港街道金山路1号
IPC主分类号
:
C23C16505
IPC分类号
:
C23C16455
代理机构
:
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463
代理人
:
严小艳
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-07-01
公开
公开
2022-07-19
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/505 申请日:20220601
2022-09-16
授权
授权
共 50 条
[1]
等离子增强化学气相沉积装置
[P].
郑建毅
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郑建毅
;
杨群峰
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杨群峰
;
庄明凤
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庄明凤
;
郑高峰
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郑高峰
;
马少宇
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马少宇
.
中国专利
:CN103789750B
,2014-05-14
[2]
等离子增强化学气相沉积装置
[P].
郑敬锡
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郑敬锡
;
尤沙科夫·安德瑞
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尤沙科夫·安德瑞
;
朴宣美
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朴宣美
;
郑和俊
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郑和俊
;
金应秀
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金应秀
.
中国专利
:CN100529176C
,2007-03-07
[3]
一种等离子增强化学气相沉积装置及其沉积方法
[P].
戴建波
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戴建波
;
刘龙龙
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刘龙龙
.
中国专利
:CN115354310A
,2022-11-18
[4]
等离子增强化学气相沉积设备
[P].
T·佩尔瑙
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T·佩尔瑙
;
S·H·舒尔茨
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S·H·舒尔茨
.
中国专利
:CN211947211U
,2020-11-17
[5]
一种等离子增强化学气相沉积装置
[P].
左桂松
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左桂松
;
董晓清
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董晓清
.
中国专利
:CN111850519A
,2020-10-30
[6]
一种等离子增强化学气相沉积装置
[P].
左桂松
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左桂松
;
董晓清
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董晓清
.
中国专利
:CN212640605U
,2021-03-02
[7]
等离子体增强化学气相沉积设备
[P].
欧阳亮
论文数:
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机构:
理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司
欧阳亮
.
中国专利
:CN120231033A
,2025-07-01
[8]
等离子增强化学气相沉积的方法及系统
[P].
范振华
论文数:
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0
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范振华
.
中国专利
:CN101965417A
,2011-02-02
[9]
一种自调平等离子增强化学气相沉积装置
[P].
戴建波
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戴建波
;
陆北源
论文数:
0
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0
陆北源
.
中国专利
:CN115233192B
,2023-02-03
[10]
一种耦合高频振动的微型等离子增强化学气相沉积装置
[P].
郑建毅
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郑建毅
;
杨群峰
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杨群峰
;
庄明凤
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庄明凤
;
郑高峰
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郑高峰
;
陈新敏
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陈新敏
.
中国专利
:CN104195528A
,2014-12-10
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