一种用于相变存储器的Si/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201810384125.7
申请日
2015-12-07
公开(公告)号
CN108447986A
公开(公告)日
2018-08-24
发明(设计)人
朱小芹 胡益丰 邹华 袁丽 吴卫华 郑龙 张建豪 吴世臣 眭永兴
申请人
申请人地址
213001 江苏省常州市钟楼区中吴大道1801号
IPC主分类号
H01L4500
IPC分类号
代理机构
常州市江海阳光知识产权代理有限公司 32214
代理人
孙培英
法律状态
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
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共 50 条
[1]
一种用于相变存储器的Si/Sb类超晶格相变薄膜材料 [P]. 
朱小芹 ;
胡益丰 ;
邹华 ;
袁丽 ;
吴卫华 ;
郑龙 ;
张建豪 ;
吴世臣 ;
眭永兴 .
中国专利 :CN108321295A ,2018-07-24
[2]
用于相变存储器的Si/Sb类超晶格相变薄膜材料及其制备方法 [P]. 
朱小芹 ;
胡益丰 ;
邹华 ;
袁丽 ;
吴卫华 ;
郑龙 ;
张建豪 ;
吴世臣 ;
眭永兴 .
中国专利 :CN105489758B ,2016-04-13
[3]
一种用于相变存储器的Ge/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法 [P]. 
胡益丰 ;
朱小芹 ;
吴世臣 ;
邹华 ;
袁丽 ;
吴卫华 ;
张建豪 ;
眭永兴 ;
沈大华 .
中国专利 :CN108598256B ,2018-09-28
[4]
用于高速相变存储器的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法 [P]. 
胡益丰 ;
潘佳浩 ;
吴小丽 ;
朱小芹 ;
吴世臣 ;
邹华 ;
袁丽 ;
吴卫华 ;
张建豪 ;
眭永兴 .
中国专利 :CN108258114B ,2018-07-06
[5]
一种用于高速低功耗相变存储器的Ge/Sb类超晶格相变薄膜材料 [P]. 
胡益丰 ;
朱小芹 ;
吴世臣 ;
邹华 ;
袁丽 ;
吴卫华 ;
张建豪 ;
眭永兴 ;
沈大华 .
中国专利 :CN108539013B ,2018-09-14
[6]
用于高速低功耗相变存储器的Ge/Sb类超晶格相变薄膜材料及其制备方法 [P]. 
胡益丰 ;
朱小芹 ;
吴世臣 ;
邹华 ;
袁丽 ;
吴卫华 ;
张建豪 ;
眭永兴 ;
沈大华 .
中国专利 :CN104934533A ,2015-09-23
[7]
用于高速相变存储器的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料及其制备方法 [P]. 
胡益丰 ;
潘佳浩 ;
吴小丽 ;
朱小芹 ;
吴世臣 ;
邹华 ;
袁丽 ;
吴卫华 ;
张建豪 ;
眭永兴 .
中国专利 :CN104795494A ,2015-07-22
[8]
用于相变存储器的Si-Sb-Se相变薄膜材料 [P]. 
凌云 ;
龚岳峰 ;
宋志棠 ;
封松林 .
中国专利 :CN101488557B ,2009-07-22
[9]
用于相变存储器的Si-Te-Sb系列相变薄膜材料 [P]. 
韩晓东 ;
成岩 ;
王珂 ;
张泽 ;
宋志棠 ;
刘波 ;
张挺 ;
封松林 .
中国专利 :CN100590903C ,2008-09-03
[10]
一种超晶格相变薄膜及相变存储器 [P]. 
程晓敏 ;
张博凯 ;
曾运韬 ;
缪向水 ;
马平 ;
廖宇 ;
石晓钟 .
中国专利 :CN115589770A ,2023-01-10