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一种用于相变存储器的Si/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810384125.7
申请日
:
2015-12-07
公开(公告)号
:
CN108447986A
公开(公告)日
:
2018-08-24
发明(设计)人
:
朱小芹
胡益丰
邹华
袁丽
吴卫华
郑龙
张建豪
吴世臣
眭永兴
申请人
:
申请人地址
:
213001 江苏省常州市钟楼区中吴大道1801号
IPC主分类号
:
H01L4500
IPC分类号
:
代理机构
:
常州市江海阳光知识产权代理有限公司 32214
代理人
:
孙培英
法律状态
:
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-01-01
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):H01L 45/00 申请公布日:20180824
2018-09-18
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 45/00 申请日:20151207
2018-08-24
公开
公开
共 50 条
[1]
一种用于相变存储器的Si/Sb类超晶格相变薄膜材料
[P].
朱小芹
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朱小芹
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胡益丰
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邹华
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袁丽
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吴卫华
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吴卫华
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郑龙
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郑龙
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张建豪
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张建豪
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吴世臣
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吴世臣
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眭永兴
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眭永兴
.
中国专利
:CN108321295A
,2018-07-24
[2]
用于相变存储器的Si/Sb类超晶格相变薄膜材料及其制备方法
[P].
朱小芹
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朱小芹
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胡益丰
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胡益丰
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邹华
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邹华
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袁丽
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吴卫华
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郑龙
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郑龙
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张建豪
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张建豪
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吴世臣
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吴世臣
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眭永兴
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眭永兴
.
中国专利
:CN105489758B
,2016-04-13
[3]
一种用于相变存储器的Ge/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法
[P].
胡益丰
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胡益丰
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朱小芹
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张建豪
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眭永兴
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眭永兴
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沈大华
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沈大华
.
中国专利
:CN108598256B
,2018-09-28
[4]
用于高速相变存储器的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料的制备方法
[P].
胡益丰
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胡益丰
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潘佳浩
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张建豪
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眭永兴
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眭永兴
.
中国专利
:CN108258114B
,2018-07-06
[5]
一种用于高速低功耗相变存储器的Ge/Sb类超晶格相变薄膜材料
[P].
胡益丰
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胡益丰
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沈大华
.
中国专利
:CN108539013B
,2018-09-14
[6]
用于高速低功耗相变存储器的Ge/Sb类超晶格相变薄膜材料及其制备方法
[P].
胡益丰
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胡益丰
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沈大华
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中国专利
:CN104934533A
,2015-09-23
[7]
用于高速相变存储器的GeTe/Sb类超晶格相变薄膜材料及其制备方法
[P].
胡益丰
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胡益丰
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潘佳浩
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潘佳浩
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张建豪
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眭永兴
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眭永兴
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中国专利
:CN104795494A
,2015-07-22
[8]
用于相变存储器的Si-Sb-Se相变薄膜材料
[P].
凌云
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凌云
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龚岳峰
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龚岳峰
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宋志棠
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宋志棠
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封松林
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封松林
.
中国专利
:CN101488557B
,2009-07-22
[9]
用于相变存储器的Si-Te-Sb系列相变薄膜材料
[P].
韩晓东
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韩晓东
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成岩
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成岩
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王珂
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刘波
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封松林
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封松林
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:CN100590903C
,2008-09-03
[10]
一种超晶格相变薄膜及相变存储器
[P].
程晓敏
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程晓敏
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张博凯
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曾运韬
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曾运韬
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石晓钟
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:CN115589770A
,2023-01-10
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